[发明专利]一种可自噬抑制的靶向卟啉金属有机框架材料PCN-224+HCQ+FA的合成方法有效
| 申请号： | 202110298839.8 | 申请日： | 2021-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN113087919B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 喻长远;陆玥达;李一帆;韩雪怡 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08G83/00 | 分类号： | C08G83/00;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 靶向 卟啉 金属 有机 框架 材料 pcn 224 hcq fa 合成 方法 | ||
1.一种可自噬抑制的靶向卟啉金属有机框架材料PCN-224+HCQ+FA的合成方法，其中HCQ为MOF的多孔结构装载自噬抑制剂硫酸羟氯喹，FA为叶酸；
其特征在于，包括如下步骤：
(1)将四羧酸苯基卟啉、二氯氧化锆和苯甲酸加入圆底烧瓶中，质量比为1：3：27，然后加入将N,N-二甲基甲酰胺，得到混合溶液A；
(2)在A中放入磁子，在水浴锅上搅拌反应5小时，搅拌温度为90摄氏度；
(3)反应完成后，趁热离心30分钟，然后用N,N-二甲基甲酰胺洗和干燥，最终得到PCN-224纳米材料；
(4)将PCN-224混悬于水中，加入自噬抑制剂HCQ，PCN-224和HCQ的质量比为1：0.5，配好后在摇床上培养2小时以上；
(5)培养结束后取下，用水离心洗三次，得到PCN-224+HCQ混悬液；
(6)在PCN-224+HCQ中加入FA-PEG-COOH溶液，PCN-224+HCQ和FA-PEG-COOH的质量比为1：0.25，在摇床上培养2个小时；
(7)培养结束后用水离心洗三次，最终得到PCN-224+HCQ+FA。
2.根据权利要求1所述的一种可自噬抑制的靶向卟啉金属有机框架材料PCN-224+HCQ+FA的合成方法，其特征在于所述步骤(2)中搅拌转速为150rpm。
3.根据权利要求1所述的一种可自噬抑制的靶向卟啉金属有机框架材料PCN-224+HCQ+FA的合成方法，其特征在于所有离心转速为10000rpm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学，未经北京化工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110298839.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
