[发明专利]显示装置以及制造显示装置的方法在审
申请号: | 202110302132.X | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN113434050A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 俞炳汉;李大荣;崔千基;金起范;林载翊 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/042;H01L27/32 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 史迎雪;康泉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 以及 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
显示模块;以及
感测器层,在所述显示模块下方,用于检测从所述显示模块反射的光,并且包括:
基底层;
感测层,在所述基底层上,并且包括检测所述光的感测元件;以及
光学图案层,在所述感测层和所述显示模块之间,并且包括限定多个开口的遮光部以及分别位于所述多个开口中的多个透射部,所述多个开口在平面图中间隔布置。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中在所述平面图中,所述遮光部围绕所述透射部,并且不与所述透射部重叠。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中所述多个透射部中的每个透射部包括允许所述光穿过的第一有机材料,并且
其中,所述遮光部包括吸收所述光的第二有机材料。
4.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:
蚀刻停止层,在所述感测元件和所述光学图案层之间。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中所述感测元件包括:
第一感测电极,在所述基底层上;
第二感测电极,在所述第一感测电极和所述蚀刻停止层之间;以及
感测部分,在所述第一感测电极和所述第二感测电极之间。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其中所述感测器层进一步包括:
绝缘层,在所述基底层和所述蚀刻停止层之间,并且覆盖所述感测元件,并且
其中所述蚀刻停止层直接位于所述绝缘层上。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其中所述蚀刻停止层的厚度小于所述绝缘层和所述光学图案层中的每个的厚度。
8.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述显示模块包括有源区域以及与所述有源区域邻近的外围区域,并且
其中,所述感测器层包括与所述有源区域重叠的检测区域。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其中所述检测区域包括与所述感测元件重叠的感测区域以及围绕所述感测区域的非感测区域,并且
其中所述多个透射部中的每个透射部与所述感测区域重叠。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其中所述遮光部与所述非感测区域重叠;并且
其中所述光学图案层进一步包括与所述非感测区域重叠的辅助透射部。
11.根据权利要求10所述的显示装置,其中在所述感测器层的厚度方向上,所述多个透射部中的每个透射部的高度小于所述辅助透射部的高度。
12.根据权利要求9所述的显示装置,其中所述感测器层进一步包括位于所述遮光部上的抗静电层,所述抗静电层与所述非感测区域重叠。
13.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:
红外滤光器,在所述显示模块和所述感测器层之间。
14.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述显示模块包括:
基底基板,具有像素区域以及与所述像素区域邻近的遮光区域;以及
显示元件层,在所述基底基板上,并且包括与所述像素区域重叠的发射层,并且
其中,所述透射部与所述遮光区域重叠。
15.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述光学图案层进一步包括在所述透射部上的掩模图案,并且
其中,所述掩模图案不与所述遮光部重叠。
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