[发明专利]一种磁性定位图案光学变色装饰片材及其制备方法在审
申请号: | 202110303305.X | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN115113312A | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | 叶建忠;罗武军 | 申请(专利权)人: | 广东侨盛新材料科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/12 | 分类号: | G02B5/12;G03F7/00;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/24;C23C14/30;C23C14/35 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 赵超群 |
地址: | 523000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁性 定位 图案 光学 变色 装饰 及其 制备 方法 | ||
1.一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:包括层叠设置的透明基材层和磁性光学变色层,所述磁性光学变色层为多层干涉镀膜层,所述磁性光学变色层包括依次复合的第一吸收层、第一介质层、反射层、磁性定位图案层和第二介质层,所述第二介质层远离所述透明基材层设置。
2.根据权利要求1所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述磁性光学变色层还包括第三介质层,所述第三介质层复合于所述第一吸收层远离所述第一介质层的一面。
3.根据权利要求2所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述第一介质层、第二介质层和第三介质层均为氧化物和/或氟化物;所述第一介质层的厚度、第二介质层的厚度和第三介质层的厚度均为2-900nm。
4.根据权利要求2所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述磁性光学变色层还包括第二吸收层,所述第二吸收层复合于所述第三介质层远离所述第一吸收层的一面。
5.根据权利要求4所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述第一吸收层和第二吸收层均为金属单质和/或金属合金;所述第一吸收层的厚度和第二吸收层的厚度均为2-900nm。
6.根据权利要求1所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述反射层为金属单质和/或金属合金;所述反射层的厚度为2-900nm。
7.根据权利要求1所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述磁性定位图案层为矫顽力大于500KA/m、剩磁大于10T的磁性材料;所述磁性定位图案层的厚度为2-900nm。
8.根据权利要求1所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材,其特征在于:所述磁性定位图案光学变色装饰片材还包括复合于所述透明基材层和磁性光学变色层之间的纳米压印层。
9.一种如权利要求1-8任意一项所述的磁性定位图案光学变色装饰片材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(S1)、在透明基材的背面粘贴带有磁性定位图案的磁版;
(S2)、在透明基材的正面以金属单质和/或金属合金为原料,通过真空蒸镀、磁控溅射或电子束蒸镀的方法获得第一吸收层;
(S3)、在第一吸收层的表面以氧化物和/或氟化物为原料,通过真空蒸镀、磁控溅射或电子束蒸镀的方法获得第一介质层;
(S4)、在第一吸收层的表面以金属单质和/或金属合金为原料,通过真空蒸镀、磁控溅射或电子束蒸镀的方法获得反射层;
(S5)、在反射层的表面以矫顽力大于500KA/m、剩磁大于10T的磁性材料为原料,通过真空蒸镀、磁控溅射或电子束蒸镀的方法获得磁性定位图案层;
(S6)、在磁性定位图案层的表面以氧化物和/或氟化物为原料,通过真空蒸镀、磁控溅射或电子束蒸镀的方法获得第二介质层,即得所述磁性定位图案光学变色装饰片材。
10.根据权利要求9所述的一种磁性定位图案光学变色装饰片材的制备方法,其特征在于:所述磁性定位图案光学变色装饰片材的制备方法在粘贴磁版之前,还包括:在透明基材的正面以光刻胶辅助,通过全息模压机将模板上的微纳结构转移到光刻胶上形成光学衍射全息图案,获得纳米压印层。
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