[发明专利]一种液态金属靶极紫外光源系统

说明书

本发明公开了一种液态金属靶极紫外光源系统，液态金属靶从顶部插入真空腔室内部，液态金属靶内部盛装有液态金属，真空腔室底部与等离子体源连接，等离子体源具有进气口、放电区和喷口，喷口与真空腔室连通，喷口与液态金属靶位置相对应，工作时液态金属靶底部产生等离子蒸汽云团，等离子体源通过等离子体电源进行供电，真空腔室外侧具有输入口和引出口，输入口处设置有激光器，激光器产生的激光束通过输入口进入真空腔室并轰击等离子蒸汽云团，引出口供极紫引光光路通过，真空腔室外侧连通有真空泵，等离子体源和真空腔室下部区域外侧设置有磁场线圈，磁场线圈通过线圈电源供电，解决现有技术中需要产生稳定高效的13.5nm光源的技术问题。

技术领域

本发明属于检测装置领域，尤其涉及一种液态金属靶极紫外光源系统。

背景技术

光刻是芯片制造技术的主要环节之一，光刻机分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV）。随着集成电路的发展，高度集成技术需求也逐渐提高，大部分电子元器件和存储单元趋于超小型化。采用极紫外光源（EUV）生产超小型芯片已最为核心的是新一代曝光技术。对于工业生产用EUV光刻机，其关键部件多层涂层镜、光收集器等，因其性能参数要求较高，如果不满足要求会影响到光学系统的工作效率。所以装机前要采用13.5nm光源对其检测评估，判断是否满足使用要求。这些器件使用过程中，会受到碳污染，影响到光学系统的工作效率，需对其进行清洗并重新检测。也需要采用13.5nm光源对其检测评估，所以如何开发一款高效稳定产生13.5nm光源的系统是本领域技术人员一直思考的难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种液态金属靶极紫外光源系统，解决上述现有技术中需要产生稳定高效的13.5nm光源的技术问题。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种液态金属靶极紫外光源系统，包括：等离子体源、真空腔室、液态金属靶、激光器和真空泵，所述液态金属靶从顶部插入真空腔室内部，所述液态金属靶内部盛装有液态金属，所述真空腔室底部与等离子体源连接，所述等离子体源具有进气口、放电区和喷口，所述喷口与真空腔室连通，所述喷口与液态金属靶位置相对应，工作时所述液态金属靶底部产生等离子蒸汽云团，所述等离子体源通过等离子体电源进行供电，所述真空腔室外侧具有输入口和引出口，所述输入口处设置有激光器，所述激光器产生的激光束通过输入口进入真空腔室并轰击等离子蒸汽云团，所述引出口供极紫引光光路通过，所述真空腔室外侧连通有真空泵，所述等离子体源和真空腔室下部区域外侧设置有磁场线圈，所述磁场线圈通过线圈电源供电。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述液态金属靶顶部设置有储存罐，所述储存罐内储存有液态金属。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述储存罐外部设置有加热器。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述液态金属靶底部设置有蒸发器。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述液态金属靶位于真空腔室内部一段的外侧设置有第一加热丝。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述液态金属靶位于真空腔室外部一段的外侧设置有第二加热丝。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述真空腔室外部设有接地端。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述加热器外部设置有保温层。

本发明的一种液态金属靶极紫外光源系统，所述第二加热丝外设有保温层。

本发明产生的有益效果是：

1、通过氩等离子体与蒸发器蒸发的锡/锂液态金属相互作用，形成锡/锂等离子体蒸气云团。

2、通过激光束与锡/锂等离子体蒸气云团相互作用，发出13.5nm极紫外光，从而实现极紫外光（EUV）的稳定输出；