[发明专利]地图制图方法及其相关设备有效

专利信息
申请号: 202110304960.7 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN112700547B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 崔福东;汤怀玉;于强;彭乘风 申请(专利权)人: 北京简巨科技有限公司
主分类号: G06T17/05 分类号: G06T17/05
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 郭曼
地址: 100125 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 地图 制图 方法 及其 相关 设备
【权利要求书】:

1.一种地图制图方法,包括:

从地图制图客户端接收地图制图请求;其中,所述地图制图请求中包括所请求地图对应的瓦片层级、瓦片位置信息、地理范围信息以及色系信息;

根据所述瓦片层级和瓦片位置信息,从预先存储的地表数据中提取与所述瓦片层级和瓦片位置信息对应的第一地表瓦片数据;

根据所述瓦片层级和瓦片位置信息,从预先存储的山体阴影数据中提取与所述瓦片层级和瓦片位置信息对应的第一山体阴影瓦片数据;

根据所述地理范围信息对所述第一地表瓦片数据进行裁切,得到与所述地理范围信息对应的第二地表瓦片数据;

根据所述地理范围信息对所述第一山体阴影瓦片数据进行裁切,得到与所述地理范围信息对应的第二山体阴影瓦片数据;

根据所述色系信息对所述第二地表瓦片数据进行渲染,得到渲染后的地表栅格瓦片;

对所述第二山体阴影瓦片数据进行半透明处理,得到山体阴影栅格瓦片;

将所述地表栅格瓦片与所述山体阴影栅格瓦片进行叠加,得到地图栅格瓦片并返回至所述地图制图客户端。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一地表瓦片数据为数字高程模型DEM瓦片数据;或者,所述第一地表瓦片数据为地表覆盖瓦片数据。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述根据所述地理范围信息对所述第一地表瓦片数据进行裁切包括:使用所述地理范围信息对所述第一地表瓦片数据进行掩膜处理;其中,经过所述掩膜处理之后,所述第二地表瓦片数据在所述地理范围信息之外的像素值被赋予空值;以及

所述根据所述地理范围信息对所述第一山体阴影瓦片数据进行裁切包括:使用所述地理范围信息对所述第一山体阴影瓦片数据进行掩膜处理;其中,经过所述掩膜处理之后,所述第二山体阴影瓦片数据在所述地理范围信息之外的像素值被赋予空值。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述使用所述地理范围信息对所述第一地表瓦片数据进行掩膜处理包括:

根据所述地理范围信息生成掩膜数据;其中,所述掩膜数据中对应所述地理范围信息所表示地理范围之内的掩膜数据为1,对应所述地理范围信息所表示地理范围之外的掩膜数据为0;以及

将所述掩膜数据和所述第一地表瓦片数据对应像素进行布尔计算。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述根据所述色系信息对所述第二地表瓦片数据进行渲染包括:

对于上述第二地表瓦片数据中的每个像素,根据所述色系信息以及其像素值计算得到所述像素对应的颜色;以及将所述像素渲染成所述颜色。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述第二地表瓦片数据为DEM瓦片数据,所述根据所述色系信息以及其像素值计算得到所述像素对应的颜色包括:根据所述色系信息以及DEM高程值计算得到所述像素对应的颜色;或者,

所述第二地表瓦片数据为地表覆盖瓦片数据,所述根据所述色系信息以及其像素值计算得到所述像素对应的颜色包括:根据所述色系信息以及地表覆盖类型值计算得到所述像素对应的颜色。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述将所述地表栅格瓦片与所述山体阴影栅格瓦片进行叠加包括:将所述地表栅格瓦片与所述山体阴影栅格瓦片对应像素的像素值相加。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述地表数据以金字塔结构存储在地表数据库中;以及,所述山体阴影数据以金字塔结构存储在山体阴影数据库中。

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