[发明专利]一种用于污水处理的生物接触氧化装置在审
申请号: | 202110304972.X | 申请日: | 2021-03-23 |
公开(公告)号: | CN112979091A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 周佳;屈建航;徐伟龙;黄英杰;王宇坤;李婉霞;李培龙;庞博 | 申请(专利权)人: | 河南工业大学 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14;C02F1/72;C02F101/30;C02F3/12;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38;C02F103/34;C02F101/10;C02F101/16;C02F3/30 |
代理公司: | 郑州中民专利代理有限公司 41110 | 代理人: | 郭中民 |
地址: | 450001 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 污水处理 生物 接触 氧化 装置 | ||
1.一种用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:它包括由至少一个上部呈柱状、底部呈由大渐小的坡面结构的氧化池(2)构成的反应器,氧化池底部为污泥沉降槽(23),在污泥沉降槽的坡面槽壁上设有带单向阀的曝气装置(7),在污泥沉降槽底部设置排污阀(8);相邻的两个氧化池以中间隔板上的溢流口进行串联,水流在池内呈上下蛇形流动;在每个氧化池内紧密卡放一个填料架(5),由纤维材料构成的填料(4)首尾相连围绕在填料架的上下圆环之间构成填料单元;在氧化池内设置恒温装置(19)、pH计(9)和温度计(3)。
2.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:在第一个氧化池设置进水口,距离反应器顶部5-10 mm;在最后一个氧化池设置出水口,其高度和进水口一样,水流为连续进水,通过进水管连接蠕动泵(17)。
3.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:所述反应器以两个底部呈由大渐小的坡面结构的氧化池为一个两级对称结构,两个氧化池是通过采用厚度4-8 mm的亚克力材质透明隔板(22)进行分割而成的体积一致的两个氧化池,且两个氧化池之间通过隔板下部设置的溢流口(6)(25 mm × 30 mm)进行串联。
4.根据权利要求3所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:多个相互独立的两级对称结构的氧化池可通过PE管串联成多级生物接触氧化反应器;多个紧密相邻的两级对称结构的氧化池之间也可通过中间隔板顶部的溢流口串联成多级生物接触氧化反应器,且每相邻的两级对称结构的氧化池中间隔板高度低于出水口3-6mm;水流在反应器内呈上下蛇形流动;多级生物接触氧化反应器的氧化池数量为奇数时,则最后一个氧化池与第一个氧化池相同,且在其中设置一个扁形导流口(32),防止废水直接排出。
5.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:在污泥沉降槽底的排污阀外侧设置气-水反冲洗结构(20),采用自来水作为反冲洗喷头水源,运行阶段可以排出残余在氧化池边缘角落的微量活性污泥,确保沉降物顺利从排污口排出。
6.根据权利要求4所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:多个相互独立的两级对称结构串联而成多级生物接触氧化反应器,后一个两级对称氧化池体积等于或小于前一个两级对称氧化池的体积,且每一级氧化池内的污泥沉降槽坡面槽壁上曝气装置7的数量根据氧化池大小设置,使每个氧化池内溶解氧(DO)维持在2-8 mg/L左右。
7.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:所述填料架5采用带有确保强度的大面积不规则开孔的亚克力材料制成,填料架外部形状与氧化池内部的形状相配合,填料架中心为锯齿圆环结构,通过矩形支撑板28连接上下两个圆环,底部圆环半径略大于上部圆环8-20 mm,通过上部圆环外围的锯齿边角紧密卡放在氧化池内壁的承托板上,且保证填料架与曝气装置的距离为50-100 mm,在保证填料适宜填充率的同时可以适应不同挂膜方式。
8.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:所述填料由聚酰胺构成,相互之间呈现相对松散的结构,且在反应器中具有较好的截留效果和较大的水通量,填料内环和外环首尾相连围绕在填料架的上下圆环之间构成填料单元,使活性污泥中的微生物高密度栖息以形成生物膜,通过协同和拮抗作用实现微生物在空间和功能上的选择性分配和自然分化。
9.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:所述恒温装置19由具有数显功能的半导体加热装置和半导体制冷装置组成,且可根据外界温度变化而对反应器内的废水进行自动升温和降温操作。
10.根据权利要求1所述的用于污水处理的生物接触氧化装置,其特征在于:用于自动监测反应器内pH值的pH计通过自带螺纹与螺母固定在氧化池上部带有安装孔的支架上,自动监测氧化池内pH值,且设置数量根据氧化池个数的增加而增设对应数量。
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