[发明专利]消除大容量光栅阵列“鬼影”的方法及系统

权利要求书

1.一种消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写方法，其特征在于，在刻写光栅阵列的过程中，改变任意两个相邻光栅之间的距离，使得相邻间隔之差不为零。

2.根据权利要求1所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写方法，其特征在于，在刻写光栅阵列的过程中，增加一个随机变量Δd_n，使得相邻两个光栅的间隔为d+Δd_n ，其中d为一个定值，Δd_n 的随机取值在-0.1d~0.1d之间。

3.根据权利要求1所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写方法，其特征在于，在刻写光栅阵列的过程中，控制光栅阵列拉丝塔刻写光栅的时间间隔，使得相同波长光栅之间的距离不完全相等。

4.一种消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，其特征在于，包括准分子激光器、光栅掩膜板、高精度计米器和控制器，其中：

准分子激光器，用于对光纤进行光栅刻写，

光栅掩膜板，用于控制刻写光栅的波长；

高精度计米器，与准分子激光器和控制器连接，用于反馈当前光纤的前进速度；

控制器，用于设置光纤的前进速度并根据高精度计米器的反馈信息计算当前光纤的实时速度对光纤前进速度进行实时调整；该控制器还用于设置光栅刻写间隔，使得相邻间隔之差不为零。

5.根据权利要求4所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，其特征在于，准分子激光器包括激光器和反馈模块，激光器通过接收控制器的指令进行刻写，反馈模块通过CCD成像将激光器的出光功率、光栅掩膜板的光斑质量反馈到控制器；该控制器根据反馈模块的反馈结果，向准分子激光器和光栅掩膜板发出微调指令。

6.根据权利要求4所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，其特征在于，控制器具体用于：将光栅掩膜板调整到预设位置，并控制准分子激光器刻写光栅，刻写之后控制器将高精度计米器的编码清0并通过准分子激光器的CCD反馈系统获取当前的掩膜板实时位置和激光器输出功率，并与预设值进行对比和微调；当高精度计米器的编码达到预设的光栅刻写间隔时，控制器控制准分子激光器再次刻写光栅并重复以上步骤。

7.根据权利要求4所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，其特征在于，控制器在预设的光栅刻写间隔d上增加一个随机变量Δd_n，使得相邻两个光栅的间隔为d+Δd_n，Δd_n的随机取值在-0.1d~0.1d之间。

8.根据权利要求7所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，其特征在于，控制器通过调整光栅掩膜板的位置来刻写相同波长的光栅；或者切换不同的光栅掩膜板，刻写不同波长的光栅。

9.根据权利要求4所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，其特征在于，控制器控制光栅阵列拉丝塔刻写光栅的时间间隔，使得相同波长光栅之间的距离不完全相等。

10.一种消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写方法，其特征在于，该方法基于权利要求4-9任一项所述的消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写系统，该方法包括以下步骤：

S1、控制器根据反馈信息调整光纤前进速度v，激光器出光功率P及光栅掩膜板位置s，并将高精度计米器置0；

S2、以设置的光栅刻写间隔d为基础，生成±10%×d以内的随机数Δd_n，得到新的光栅间隔d’=d+Δd_n；

S3、实时获取高精度计米器的编码信息；

S4、判断高精度计米器的编码是否等于d’；

S5、若高精度计米器编码等于d’，则准分子激光器进行光栅刻写；

S6、控制器获取准分子激光器反馈信息；

S7、根据反馈信息判断光纤刻写数量是否达到预设值，若是则结束程序，若否则回到步骤S1。