[发明专利]一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法有效
申请号: | 202110308085.X | 申请日: | 2021-03-23 |
公开(公告)号: | CN113076668B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 朱铧丞;杨阳 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 卿诚 |
地址: | 610041 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 空间 尺度 实现 电磁场 加速 计算 方法 | ||
1.一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:包括设定空间模型步骤、设定介质参数步骤和计算步骤;
所述设定空间模型步骤具体如下:
步骤a.设置仿真模型及边界条件;
步骤b.获取薄壁区域的位置和几何尺寸,用比薄壁区域几何尺寸大的变换光学区域替换薄壁区域,设定变换光学区域的位置和几何尺寸;
所述设定介质参数步骤具体如下:
步骤c.获取薄壁区域的介质参数,并利用变换光学算法计算等效替换薄壁区域的变换光学区域的介质参数,设定变换光学区域的介质参数;
步骤d.设定物料区域的介质参数;
步骤e.设定除薄壁区域和变换光学区域之外的区域的介质参数;
所述计算步骤具体如下:
步骤f.采用FDTD时域有限差分算法或FEM有限元算法进行网格剖分,获取带薄壁区域的物理场分布;设定厚壁区域的位置和几何尺寸,用比厚壁区域几何尺寸小的变换光学区域替换厚壁区域,设定变换光学区域的位置和几何尺寸;获取厚壁区域的介质参数,并利用变换光学算法计算等效替换厚壁区域的变换光学区域的介质参数,设定变换光学区域的介质参数。
2.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述边界条件为带薄壁区域采用开放空间或封闭空间。
3.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述介质参数为介电张量和磁导率张量。
4.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述介质参数为热导率张量、密度和比热容。
5.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述介质参数为介电张量、磁导率张量、热导率张量、密度和比热容。
6.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:在设置仿真模型中设置微波参数;微波参数为微波功率、微波频率和微波模式。
7.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述物理场分布为电场分布和电磁损耗分布。
8.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述物理场分布为温度分布。
9.根据权利要求1所述的一种降空间尺度差实现电磁场加速计算的方法,其特征在于:所述物理场分布为电场分布、电磁损耗分布和温度分布。
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