[发明专利]量产型激光直写光刻机及其控制方法

权利要求书

1.一种量产型激光直写光刻机，其特征在于，应用于集成电路制造，所述量产型激光直写光刻机，包括：移动平台、对准相机、光学引擎和移载装置，其中，

所述移动平台包括多个区域，每个所述区域内安装有多个光学引擎；

所述光学引擎根据晶圆上的Mark位置对每个镜头进行图形数据变换处理，并根据变换后得到的图形位置数据在各晶圆相对应的位置进行曝光，所述光学引擎仅对所述移动平台上其对应所在区域内的晶圆进行曝光，所述光学引擎通过支架固定在所述移动平台上其对应所在区域内；

所述对准相机设置在所述光学引擎的同轴或旁轴，所述对准相机根据晶圆上的Mark位置对晶圆进行对准；

所述移载装置用于移取所述晶圆，将所述晶圆移入或移出所述移动平台，所述移载装置包括多个移载机或多个机械手，所述移载机或机械手上设置有多个移料吸盘，所述移料吸盘包括多个吸盘，所述移载机或机械手通过多个所述移料吸盘同时将多个晶圆移入或移出所述移动平台。

2.根据权利要求1所述的量产型激光直写光刻机，其特征在于，所述光学引擎由空间光调制器构成。

3.根据权利要求1所述的量产型激光直写光刻机，其特征在于，所述移动平台可同步在步进方向和扫描方向移动。

4.一种集成电路制造设备，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的量产型激光直写光刻机。

5.一种如权利要求1-3任一项所述的量产型激光直写光刻机的控制方法，其特征在于，应用于集成电路制造，所述方法包括以下步骤：

提供移动平台，所述移动平台包括多个区域，每个所述区域对应放置一片晶圆；

所述移动平台移出台面，移载装置将所述晶圆移到所述移动平台上的预对准位置，利用寻边器对晶圆位置进行预对准处理；

移载装置将预对准过的晶圆移入移动平台相对应的区域；

对准相机根据晶圆上的Mark位置对晶圆进行对准；

所述光学引擎根据晶圆上的Mark位置进行对准曝光，其中，每个所述区域内安装有多个光学引擎，所述光学引擎仅对所述移动平台上其对应所在区域内的晶圆进行曝光；

晶圆曝光结束，所述移载装置将曝光过的晶圆移出所述移动平台。