[发明专利]一种可降解的3D有序大孔壳聚糖膜、其制备方法和应用

权利要求书

1.一种可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、制备300～600nm的聚苯乙烯微球；

步骤2、制备壳聚糖聚乙烯醇印迹复合材料；

步骤3、制备壳聚糖蒙脱土印迹复合材料；

步骤4、得到壳聚糖蒙脱土印迹复合膜，去除聚苯乙烯微球，洗脱壳聚糖膜。

2.根据权利要求1所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，所述聚苯乙烯微球的制备方法，包括如下步骤：

步骤11、单体苯乙烯的纯化预处理：

将苯乙烯单体与5wt％的NaOH水溶液1:1混合，静置一会，将上层的油性物质取出，该操作重复3次，直至检测水为中性，再通过减压蒸馏，得到所需的纯化单体；

步骤12、聚苯乙烯微球的聚合

其次，分别取纯化的苯乙烯和聚乙烯吡咯烷酮，两者混合后向其中加入蒸馏水；向其投加的过硫酸铵，再将得到的溶液与乙醇混合装入烧瓶中，并在25℃下对该溶液进行氮气保护30min；然后对得到的混合物油浴缓慢加热到50～70℃，反应16h；

步骤13、聚苯乙烯微球的分离

最后，对反应后得到的溶液进行离心分离，再用无水乙醇润洗离心管中的聚苯乙烯，并在40℃下烘干待用。

3.根据权利要求2所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，所述纯化的苯乙烯和聚乙烯吡咯烷酮的质量比为100：(0.65～1.20)。

4.根据权利要求1所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，所述壳聚糖聚乙烯醇印迹复合材料的制备方法，包括如下步骤：

步骤21、取30～40mg的壳聚糖分散到50ml质量分数为1％的醋酸溶液，得到0.5～1.0％wt的壳聚糖溶液；

步骤22、投加8～12mg的硝酸铜于壳聚糖溶液，超声形成均匀的溶液，其次向上述溶液中加入150～250mg的聚苯乙烯微球；

步骤23、超声后加入0.5～1.2ml的京尼平溶液，超声搅拌20～45min，使其形成均匀混合溶液，即为壳聚糖聚乙烯醇印迹复合材料的溶液。

5.根据权利要求4所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，所述京尼平溶液为质量浓度为1～2％的京尼平的磷酸缓冲盐溶液。

6.根据权利要求1所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，所述壳聚糖蒙脱土印迹复合材料的制备方法包括如下步骤：

步骤31、称取35～40mg的蒙脱土，溶于20ml的蒸馏水中，油浴加热搅拌使其升温至60℃，并在此恒温条件下继续搅拌，得到蒙脱土悬浮液；

步骤32、然后将壳聚糖聚乙烯醇印迹复合材料的溶液缓慢逐滴加入恒温下的蒙脱土悬浮液中，待充分反应后，保温0.5小时；

步骤33、向其中加入0.5g的丙三醇，恒温条件下搅拌2小时，得到壳聚糖蒙脱土印迹复合材料的溶液。

7.根据权利要求1所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜、其制备方法和应用，其特征在于，所述壳聚糖蒙脱土印迹复合膜的制备方法，包括如下步骤：

步骤41、将反应后的壳聚糖蒙脱土印迹复合材料的溶液倒入聚四氟乙烯模具中，放入烘箱以50℃干燥8h成膜；

步骤42、将得到的聚四氟乙烯薄膜在质量浓度为3％的戊二醛里浸泡30min，再将所得的膜在甲苯中浸泡90min以去除小球模板；

步骤43、最后将膜放置在索氏提取器中，用洗脱液浸泡洗脱，直至其洗脱液中检测不出铜离子。

8.根据权利要求1所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法，其特征在于，所述洗脱液为8～12wt％的醋酸溶液。

9.一种基于权利要求1至8任一项所述的可降解的3D有序大孔壳聚糖膜的制备方法所得到的壳聚糖蒙脱土印迹复合膜。

10.一种基于权利要求9所述的壳聚糖蒙脱土印迹复合膜作为吸附剂在吸附电镀废水中铜离子上的应用。