[发明专利]提高光刻设备对准性能的方法及装置

权利要求书

1.一种提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供数据库，所述数据库包括至少一数据组，每一所述数据组包括晶圆的特征信息及其对应的选定对准光源组，所述选定对准光源组包括至少一个选定对准光源类型；

提供待对准晶圆，所述待对准晶圆的特征信息及与其对应的预设对准光源类型；

以所述待对准晶圆的所述特征信息为依据，在所述数据库中获取与所述特征信息对应的选定对准光源类型；

将所述选定对准光源类型与所述预设对准光源类型对比，若两者一致，则采用所述预设对准光源类型作为所述待对准晶圆的对准光源类型，若两者不一致，则采用所述选定对准光源类型作为所述待对准晶圆的对准光源类型；

形成所述数据库的方法包括：提供多个测试晶圆，获取各所述测试晶圆的特征信息及其对应的选定对准光源组，并将其作为所述数据组，所述选定对准光源组包括至少一个选定对准光源类型；其中，所述获取各所述测试晶圆对应的选定对准光源组的步骤包括：

采用多个不同类型对准光源类型分别对所述测试晶圆进行对准处理，获得各所述测试晶圆在各所述对准光源类型下的光刻对准性能参数，所述光刻对准性能参数至少包括残差叠对性能指标；

从各所述测试晶圆的各所述残差叠对性能指标中获取各所述测试晶圆所对应的最优残差叠对性能指标，所述最优残差叠对性能指标所对应的对准光源类型形成所述选定对准光源组；或者

所述获取各所述测试晶圆对应的选定对准光源组的步骤包括：

采用多个不同类型对准光源类型分别对所述测试晶圆进行对准处理，获得各所述测试晶圆在各所述对准光源类型下的光刻对准性能参数，所述光刻对准性能参数至少包括残差叠对性能指标；

对各所述测试晶圆的各所述残差叠对性能指标进行排序，所述残差叠对性能指标对应的对准光源类型形成所述选定对准光源组。

2.根据权利要求1所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，各所述测试晶圆的特征信息包括各所述测试晶圆的产品信息，所述待对准晶圆的特征信息包括所述待对准晶圆的产品信息，且至少部分所述测试晶圆的产品信息与所述待对准晶圆的产品信息相同。

3.根据权利要求1所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，所述从各所述测试晶圆的各所述残差叠对性能指标中获取各所述测试晶圆所对应的最优残差叠对性能指标的步骤包括：

采用残差叠对性能指标升序排列后位于第一位的值作为最优。

4.根据权利要求1所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，所述从各所述测试晶圆的各所述残差叠对性能指标中获取各所述测试晶圆所对应的最优残差叠对性能指标的步骤包括：

采用残差叠对性能指标升序排列后位于第一位和第二位的值作为最优。

5.根据权利要求4所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，在将所述选定对准光源类型与所述预设对准光源类型对比的步骤中，若所述预设对准光源类型与所述选定对准光源类型中的至少一个一致，则采用所述预设对准光源类型作为所述待对准晶圆的对准光源类型，若所述预设对准光源类型与所述选定对准光源类型均不一致，则采用所述选定对准光源类型作为所述待对准晶圆的对准光源类型。

6.根据权利要求1所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，所述光刻对准性能参数还包括晶圆质量和多重相关系数，以所述晶圆质量和多重相关系数为限定，筛选所述残差叠对性能指标，并从筛选出的所述残差叠对性能指标中获取各所述测试晶圆所对应的最优残差叠对性能指标。

7.根据权利要求6所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，所述以所述晶圆质量和多重相关系数为限定，筛选所述残差叠对性能指标的方法包括：

选取晶圆质量大于第一预设值，多重相关系数大于第二预设值的测试晶圆；

获取各所述测试晶圆的各所述残差叠对性能指标作为筛选出的所述残差叠对性能指标。

8.根据权利要求7所述的提高光刻设备对准性能的方法，其特征在于，所述第一预设值为0.1％，所述第二预设值为0.7。