[发明专利]一种支撑型硅胶保护膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110317436.3 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113105833B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 陈信宏;林建成;李妮娜 申请(专利权)人: 太仓金煜电子材料有限公司
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J183/04
代理公司: 苏州隆恒知识产权代理事务所(普通合伙) 32366 代理人: 周子轶
地址: 215400 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 支撑 硅胶 保护膜 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种支撑型硅胶保护膜及其制备方法,包括依次设置的基材层、胶黏剂层和底材层;所述胶黏剂层采用的胶黏剂中包括低粘有机硅胶和高粘有机硅胶中的一种或两种混合。所述低粘有机硅胶的平均分子量为80000~110000,平均分子数50000~90000,分散度为≤2;所述高粘有机硅胶的平均分子量为50000~75000,平均分子数2000~4000,分散度为≤25。本发明支撑型硅胶保护膜的黏着力及被剥离具有高稳定性,其与印刷薄膜材料表面的贴附力不会增加,在剥离时不会破坏印刷薄膜材料。

技术领域

本发明涉及了材料加工技术领域,具体的是一种支撑型硅胶保护膜及其制备方法。

背景技术

在电子行业,保护膜是一种不可或缺的材料,其功能在于保护产品的表面不受污染和损伤,以及便于客户进行模切定位加工。

目前在电子产品硬体有一类别印刷薄膜材料,属外观件,使用范围广且用量大,但却因其厚度轻薄及油墨印刷面较为脆弱,使得在模切加工时容易发生褶皱、粉尘吸附、脏污、划伤等异常。因此需要针对此类印刷薄膜材料表面挑选一适合保护膜。

在经过一系列的实验验证后发现,压敏胶保护膜在经过压力贴合后以及贴合后时间越长,其粘着力会爬升,从而使其与印刷薄膜材料表面的贴附力会增加,使得最后将压敏胶保护膜剥离时,由于剥离力过高而会破坏印刷薄膜材料。主要原因在于油墨本身属液态,即使在印刷固化后依然属半液态,较软易被破坏。再者,油墨层的印刷纹理会增加胶层与其的流平及咬合。

因此有必要研发出一种新的保护膜,以能够解决上述技术问题。

发明内容

为了克服现有技术中的缺陷,本发明提供了一种支撑型硅胶保护膜及其制备方法,其黏着力及被剥离具有高稳定性,其与印刷薄膜材料表面的贴附力不会增加,在剥离时不会破坏印刷薄膜材料。

本发明公开了一种支撑型硅胶保护膜,包括依次设置的基材层、胶黏剂层和底材层;所述胶黏剂层采用的胶黏剂中包括低粘有机硅胶和高粘有机硅胶中的一种或两种混合;

所述低粘有机硅胶的平均分子量为80000~110000,平均分子数50000~90000,分散度为≤2;

所述高粘有机硅胶的平均分子量为50000~75000,平均分子数2000~4000,分散度为≤25。

作为优选,所述低粘有机硅胶的粘度为50000CPS,平均分子量为103000,平均分子数为85400,分散度为1.68,黏着力为0.5~1.5gf/in。

作为优选,所述高粘有机硅胶的粘度为30000CPS,平均分子量为70100,平均分子数为3480,分散度为20.14,黏着力为700~900gf/in。

作为优选,所述胶黏剂层采用的胶黏剂中包括低粘有机硅胶和高粘有机硅胶,所述低粘有机硅胶和所述高粘有机硅胶的重量比为80:20~100:1。

作为优选,所述基材层为聚酯薄膜,所述聚酯薄膜的厚度范围值为0.05~0.1mm。

作为优选,所述胶黏剂层的厚度范围值为0.008~0.015mm。

作为优选,所述胶黏剂层采用的胶黏剂的黏着力范围值为0.5~15gf/in。

本发明同时提供了一种支撑型硅胶保护膜的制备方法,包括以下步骤:

取低粘有机硅胶和高粘有机硅胶混合得到主体胶;

将主体胶与稀释剂按照重量比1:(2~4)进行混合,以300~500r/min混合20~40min,再密封静置20~40min后得到胶黏剂;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太仓金煜电子材料有限公司,未经太仓金煜电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110317436.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top