[发明专利]一种用于纳米压印设备的UV灯监测装置及其监测方法在审
申请号: | 202110319177.8 | 申请日: | 2021-03-25 |
公开(公告)号: | CN112985595A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 冀然 | 申请(专利权)人: | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42 |
代理公司: | 山东重诺律师事务所 37228 | 代理人: | 王鹏里 |
地址: | 266000 山东省青岛市城阳区城*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 纳米 压印 设备 uv 监测 装置 及其 方法 | ||
1.一种用于纳米压印设备的UV灯监测装置,其特征在于,包括:具有容纳腔的壳体,纳米压印设备的UV灯位于所述壳体内,在壳体内位于UV灯左右两侧连接有导轨,在UV灯下方,与导轨滑动连接有滑杆,所述滑杆通过驱动装置驱动其沿导轨移动,在所述滑杆上连接有三个UV灯能量监测探头,还包括与UV灯能量监测探头以及驱动装置电性连接的控制系统,以使所述滑杆移动时,UV灯能量监测探头监测UV灯能量,并将能量信息反馈给控制系统,以得到UV灯的能量均匀度信息。
2.根据权利要求1所述的用于纳米压印设备的UV灯监测装置,其特征在于:自所述UV灯前方向所述UV灯后方设置有三个位置监测点A、B、C,以当滑杆带动UV灯能量监测探头到达三个位置监测点时分别采集能量信息反馈至控制系统,计算能量的均匀度。
3.根据权利要求2所述的用于纳米压印设备的UV灯监测装置,其特征在于:所述驱动装置为伸缩杆或驱动电机。
4.根据权利要求2所述的用于纳米压印设备的UV灯监测装置,其特征在于:所述壳体不透光的黑色亚克力材质。
5.根据权利要求2所述的用于纳米压印设备的UV灯监测装置,其特征在于:所述控制系统为PLC控制系统。
6.一种UV灯监测方法,采用权利要求2-5任一权利要求所述的UV灯监测装置,其特征在于:包括以下步骤:
S1、根据UV灯的尺寸在控制系统中设置滑杆移动的行程;
S2、控制系统控制驱动装置驱动滑杆移动,以使与滑杆连接的三个UV灯能量监测探头分别在三个位置监测点A、B、C监测,并将三个位置监测点A、B、C的能量数据反馈至控制系统;
S3、控制系统计算并输出9点能量数据的各点偏差。
7.根据权利要求1所述的UV灯监测方法,其特征在于:在步骤S2中,三个UV灯能量监测探头到达位置监测点A,位置监测点A处的UV灯亮起,三个UV灯能量监测探头采集位置监测点A处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录,记录完成后,位置监测点A处的UV灯关闭。
8.根据权利要求1所述的UV灯监测方法,其特征在于:在步骤S2中,三个UV灯能量监测探头到达位置监测点B,位置监测点B处的UV灯亮起,三个UV灯能量监测探头采集位置监测点B处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录,记录完成后,位置监测点B处的UV灯关闭。
9.根据权利要求1所述的UV灯监测方法,其特征在于:在步骤S2中,三个UV灯能量监测探头到达位置监测点C,位置监测点C处的UV灯亮起,三个UV灯能量监测探头采集位置监测点C处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录,记录完成后,位置监测点C处的UV灯关闭。
10.根据权利要求9所述的UV灯监测方法,其特征在于:位置监测点C处的UV灯关,驱动装置驱动滑杆回到原点。
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