[发明专利]一种量子点器件及其制备方法在审
申请号: | 202110319250.1 | 申请日: | 2021-03-25 |
公开(公告)号: | CN113109974A | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 陈涛 | 申请(专利权)人: | 纳晶科技股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/135 | 分类号: | G02F1/135;H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
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地址: | 310052 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种量子点器件的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
S1,在基板上设置感光材料,所述感光材料具有相互可交联的第一基团和可与量子点配位结合的第二基团;
S2,利用掩模板对所述感光材料进行曝光显影,清洗除去未固化的感光材料,所述第一基团相互交联发生聚合,形成多个互相间隔的固化的聚合物锚定层;
S3,在具有所述锚定层的基板上设置量子点组合物,所述量子点组合物中的量子点与所述第二基团配位结合,得到多个被所述锚定层锚定的量子点层。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述S2中,利用掩模板对所述感光材料进行曝光显影并清洗,形成多个互相间隔的第一锚定层;在所述S3中,在具有所述第一锚定层的基板上设置第一量子点组合物,等待第一时间后,使用溶剂清洗除去未结合的第一量子点,从而在各所述第一锚定层上形成第一量子点层;继续在所述基板上设置感光材料,利用掩模板进行曝光显影并清洗,形成多个互相间隔的第二锚定层,且所述第二锚定层和所述第一锚定层并无叠置;继续在所述基板上设置第二量子点组合物,等待第二时间后,使用溶剂清洗除去未结合的第二量子点,从而在各所述第二锚定层上形成第二量子点层。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:在完成所述第二量子点层的设置后,在基板上设置感光材料,利用掩模板进行曝光显影并清洗,形成多个互相间隔的第三锚定层,且所述第三锚定层和所述第一锚定层、所述第二锚定层并无叠置;继续在所述基板上设置第三量子点组合物,等待第三时间后,使用溶剂清洗除去未结合的第三量子点,在各所述第三锚定层上形成第三量子点层。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第一基团选自烯基、炔基、巯基、羟基、羰基或环氧基中的至少一种,所述第二基团选自胺基、巯基或羧基中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述S3中,在各个所述锚定层上设置含量子点A的组合物,所述第二基团与所述量子点A的表面配位结合,使用溶剂清洗除去未结合的所述量子点A,得到量子点A层;在所述量子点A层上设置多个具有多官能团的配体,所述配体的一端官能团与所述量子点A连接,清洗掉未与所述量子点A结合的所述配体,形成位于所述量子点A层上的配体层;在所述基板上继续设置含量子点B的量子点组合物,所述量子点B通过连接所述配体的另一端官能团与所述量子点A结合,使用溶剂清洗除去未结合的所述量子点B,从而得到量子点B层。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,将所述S2中形成的所述聚合物锚定层记为锚定A层,所述制备方法包括:在所述S3中,在锚定A层上设置含量子点A的量子点组合物,所述第二基团与所述量子点A的表面配位结合,使用溶剂清洗除去未结合的所述量子点A,得到量子点A层;在所述基板上继续设置感光材料,曝光显影固化,形成锚定B层,所述锚定B层和所述锚定A层叠置设置,在所述锚定B层上设置含量子点B的组合物,所述量子点B与所述锚定B层的第二基团配位结合,得到量子点B层。
7.根据权利要求1-6所述的制备方法,其特征在于,所述量子点器件为电致发光器件或光致发光器件;当所述量子点器件为电致发光器件时,所述基板具有第一电极,所述制备方法还包括,S4,在所述量子点层上设置第二电极。
8.一种量子点器件,其特征在于,所述量子点器件包括多个子单元,所述子单元包括依次叠置的基板、锚定层和量子点层,各所述子单元之间相互间隔,所述锚定层包括聚合物,所述聚合物具有多个第二基团,所述多个第二基团和所述量子点层的量子点配位结合。
9.根据权利要求8所述的量子点器件,其特征在于,所述第二基团选自胺基、巯基或羧基中的至少一种。
10.根据权利要求8所述的量子点器件,其特征在于,所述量子点器件为量子点电致发光器件,所述锚定层的厚度≤20nm。
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