[发明专利]一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110320451.3 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113078349A 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 唐浩林;王仲明;陈智伟;陈志华;詹心泉 申请(专利权)人: 光鼎铷业(广州)集团有限公司
主分类号: H01M10/056 分类号: H01M10/056;H01M10/058;H01M10/0525;H01M10/42
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 张秋燕
地址: 510040 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 掺杂 rb 三元 复合 固态 电解质 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法,其特征在于它包括以下步骤:

(1)制备铷掺杂的LLZTO固态电解质:将锂源、镧源、锆源、钽源、铷源加入分散剂球磨混合12~24 h,在700~1200 °C高温下进行烧结,球磨成粉末状,加入分散剂,形成铷掺杂的LLZTO浆料;

(2)将步骤(1)所得铷掺杂的LLZTO浆料浸润聚合物基底的两面,置于100~120 °C真空炉中进行干燥,并在50~500 MPa下压成50~100微米厚度的片状陶瓷电解质;

(3)将步骤(2)所得片状陶瓷电解质浸泡在离子液体中12~24 h,然后在100~120 °C真空烘干,得到形成LLZTO陶瓷基、聚合物和离子液体复合的固态电解质,即掺杂Rb的三元复合固态电解质。

2.根据权利要求1所述的一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法,其特征在于步骤(1)中分散剂均采用N-甲基吡咯烷酮。

3.根据权利要求1所述的一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法,其特征在于步骤(2)中聚合物基底膜选自PEO、PAN、PEC、PVP、PVDF、PPC中的一种,膜厚度控制在50~100μm。

4.根据权利要求1所述的一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法,其特征在于步骤(3)中离子液体采用含锂的离子液体[EMI0.8Li0.2][TFSI]。

5.根据权利要求1所述的一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法,其特征在于所述锂源选自氢氧化锂、碳酸锂、高氯酸锂、双三氟甲基磺酰亚胺锂中的一种或者几种;镧源选自为氧化镧、氢氧化镧、碳酸镧中的一种或几种;所述锆源选自氧化锆、氢氧化锆、碳酸锆中的至少一种或者几种;所述铷源选自碳酸铷、氯化铷、硝酸铷、氢氧化铷中的一种;所述钽源选自氧化钽和氢氧化钽中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种掺杂Rb的三元复合固态电解质的制备方法,其特征在所述锂源、镧源、锆源、钽源、铷源按金属离子的Li、La、Zr、Ta、Rb的摩尔比来计为(7~8):3:2:(0.5~1.5):(0~1);其中,铷源的量不为0。

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