[发明专利]一种超宽带角度不敏感宽带红外吸波结构超材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110324631.9 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN112965149A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 周佩珩;赵望辰;李文新;谢建良 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02B1/00
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 宽带 角度 敏感 红外 结构 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种超宽带角度不敏感宽带红外吸波结构超材料,其特征在于:

采用AAO模板-电化学沉积法制备的金属纳米线阵列;

所述金属纳米线阵列的金属纳米线长度呈单一方向的逐渐增加或者减少,即金属纳米线阵列的金属纳米线长度呈阶梯渐变的结构。

2.如权利要求1所述超宽带角度不敏感宽带红外吸波结构超材料,其特征在于:

通过调整阶梯型金属纳米线阵列的最短金属纳米线尺寸和最长金属纳米线尺寸,以及金属纳米线直径、金属纳米线的间距和金属纳米线的材料,实现预期的频段覆盖。

3.如权利要求1所述超宽带角度不敏感宽带红外吸波结构超材料,其特征在于:所述金属纳米线的材料为银、金、锌、钴、铂或镍。

4.如权利要求1所述超宽带角度不敏感宽带红外吸波结构超材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、根据预期覆盖的频段确定金属纳米线的材料,然后计算阶梯型金属纳米线阵列的最短金属纳米线尺寸、最长金属纳米线尺寸、金属纳米线直径和金属纳米线的间距;

步骤2、根据步骤1所得参数尺寸制备对应的AAO模板;

步骤3、在步骤2制备的AAO模板上沉积阶梯型金属纳米线阵列;

步骤3.1、以AAO模板的底层金属板垂直置入电解液液面的方式,首先在AAO模板纳米孔中沉积生长形貌完整均匀的最短的金属纳米阵列;

步骤3.2、然后逐步将AAO模板已沉积完成的金属纳米长度的区域从电解液中提起,AAO模板从电解液中提起的时间间隔为相邻梯度金属纳米线长度差的生长时间,通过模板从上到下的沉积时间逐步增加,以得到纳米线长度逐步增加的阶梯型金属纳米阵列。

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