[发明专利]一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

彩膜基板本体；所述彩膜基板本体的周边区域设置有至少一第一对位标记层，以及和所述第一对位标记层同层设置的遮光层；其中，所述第一对位标记层的厚度低于所述遮光层的厚度。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一对位标记层包括第一标记层和第二标记层，所述第二标记层与所述第一标记层并列设在所述彩膜基板本体上；所述第二标记层的厚度小于或等于所述第一标记层的厚度。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一对位标记层的材料与所述遮光层的材料为同一种材料；且所述第一对位标记层与所述遮光层均通过同一道光罩图像化处理形成的。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括隔垫物，所述隔垫物与所述遮光层并列设在所述彩膜基板本体上，所述隔垫物的厚度大于所述遮光层的厚度。

5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，用于制造如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：

形成一彩膜基板本体；

在所述彩膜基板本体上形成基底膜层；

在所述基底膜层上采用具有至少三种透光率的光罩对所述基底膜层进行曝光处理；

蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体上形成遮光层及第一对位标记层，其中，所述遮光层的厚度大于所述第一对位标记层的厚度。

6.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述遮光层对应所述光罩的透过率小于所述第一对位标记层对应所述光罩的透过率。

7.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述基底膜层上设置具有至少三种透光率的光罩，并对所述光罩曝光形成所述第一对位标记层的步骤包括：

采用紫外光朝向所述光罩照射，紫外光透过光罩照射在基底膜层上；

在曝光后的基底膜层上添加碱性的显示液；

对基底膜层进行蚀刻。

8.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体上形成第一对位标记层的步骤包括：

蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，在所述彩膜基板本体上形成隔垫物，在所述隔垫物的两侧形成遮光层及第一对位标记层。

9.一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括：

阵列基板，所述阵列基板上设有第二对组标记；

如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，所述彩膜基板设置在所述阵列基板上，将所述彩膜基板的第一对位标记层与所述第二对组标记对位设置，用于所述彩膜基板与所述阵列基板准确对组。

10.如权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：

玻璃基板，所述第二对组标记设在所述玻璃基板上；

三基色色阻，所述三基色色阻设在所述玻璃基板上。