[发明专利]虚像显示装置和光学单元在审
申请号: | 202110333626.4 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN113467086A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 松本大辉;米漥政敏;武田高司 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B27/01 | 分类号: | G02B27/01 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李庆泽;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 虚像 显示装置 光学 单元 | ||
1.一种虚像显示装置,其具有:
图像光生成装置;
投射光学系统,其投射从所述图像光生成装置射出的图像光;
折返镜,其使来自所述投射光学系统的所述图像光向交叉方向反射;
半透射镜,其使来自所述折返镜的所述图像光的一部分反射;以及
凹面镜,其使被所述半透射镜反射后的所述图像光朝向所述半透射镜反射,形成出射光瞳,
将从所述投射光学系统的光轴即投射光轴与所述折返镜的交点朝向出射光轴的方向设为第1方向,所述出射光轴是从所述凹面镜朝向所述出射光瞳的光轴,
从所述第1方向观察时,所述折返镜配置于所述半透射镜与所述凹面镜之间。
2.根据权利要求1所述的虚像显示装置,其中,
所述半透射镜被配置成铅垂轴和所述半透射镜所成的角度小于45°。
3.根据权利要求1或2所述的虚像显示装置,其中,
所述折返镜以避免遮挡所述凹面镜和所述半透射镜的有效区域的方式配置。
4.根据权利要求1或2所述的虚像显示装置,其中,
所述图像光生成装置和所述投射光学系统被配置成,所述投射光轴相对于基准面的法线向所述半透射镜侧倾斜,所述基准面包含所述半透射镜的法线和所述凹面镜的轴线。
5.根据权利要求1或2所述的虚像显示装置,其中,
使所述图像光入射到所述凹面镜并反射的所述出射光轴被设定为相对于在所述出射光瞳的位置处与铅垂线正交的水平面,朝向所述凹面镜以规定角度朝向下侧。
6.根据权利要求1或2所述的虚像显示装置,其中,
所述折返镜配置于沿所述第1方向向所述投射光学系统侧假想地延长了所述半透射镜而成的第1假想延长面与沿所述第1方向向所述投射光学系统侧假想地延长了所述凹面镜而成的第2假想延长面之间。
7.一种光学单元,其具有:
投射光学系统,其投射从图像光生成装置射出的图像光;
折返镜,其使来自所述投射光学系统的所述图像光向交叉方向反射;
半透射镜,其使来自所述折返镜的所述图像光的一部分反射;以及
凹面镜,其使被所述半透射镜反射后的所述图像光朝向所述半透射镜反射,形成出射光瞳,
将从所述投射光学系统的光轴即投射光轴与所述折返镜的交点朝向出射光轴的方向设为第1方向,所述出射光轴是从所述凹面镜朝向所述出射光瞳的光轴,
从所述第1方向观察时,所述折返镜配置于所述半透射镜与所述凹面镜之间。
8.根据权利要求7所述的光学单元,其中,
所述折返镜配置于沿所述第1方向向所述投射光学系统侧假想地延长了所述半透射镜而成的第1假想延长面与沿所述第1方向向所述投射光学系统侧假想地延长了所述凹面镜而成的第2假想延长面之间。
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