[发明专利]一种用于负极片补锂的锂卷膜及应用

权利要求书

1.一种用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，

所述锂卷膜包括基材层和通过镀锂的方式在基材层上形成的锂膜；

所述基材层在镀锂前表面预镀5～20nm镍薄层；

所述锂膜的厚度为50～2500nm；

所述基材层的基材为高分子膜、超薄纤维纸、石墨纸、纳米纸或高分子与纤维复合超薄膜中的一种。

2.根据权利要求1所述的用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，锂膜均匀度±20nm。

3.根据权利要求1或2所述的用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，镀锂的方法为真空蒸发镀锂、磁控镀锂中的一种或组合。

4.根据权利要求3所述的用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，真空蒸发镀锂的过程为：将基材卷放置在真空蒸发镀膜设备的主辊上，放入锂源，保持冷却温度≤-25℃，真空压力≤9×10^-3Pa进行镀锂，基材卷走膜20~60m/min，锂源纯度≥99.9%。

5.根据权利要求3所述的用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，磁控镀锂的过程为：将基材卷放在磁控溅射设备的主辊上，靶材为锂源，保持冷却温度≤-25℃，真空压力≤9×10^-3Pa进行镀锂，基材卷走膜速度为20~50m/min，锂源纯度≥99.9%。

6.根据权利要求1所述的用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，所述基材层的厚度为8～15µm。

7.根据权利要求1所述的用于负极片补锂的锂卷膜，其特征在于，镍薄层经磁控溅射镀上：将基材卷放入磁控溅射设备的主辊上，靶材为镍，保持冷却温度≤-25℃，真空压力≤9×10^-3Pa进行镀镍，基材卷走膜20~50m/min，镍纯度≥99.97%。

8.一种如权利要求1至7任一所述的锂膜卷在锂电池负极片补锂上的应用。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，补锂的方法如下：将锂卷膜的镀锂层贴合锂电池负极片的表面，然后压延使锂卷膜粘附在锂电池负极片表面，再去除基材层。