[发明专利]光刻工艺条件添加方法及装置、设计系统、介质和设备

权利要求书

1.一种光刻工艺条件添加方法，用于图形设计系统，其特征在于，所述方法包括：

获取所述图形设计系统中记录的层识别码，根据所述层识别码确定光刻层对应的工艺条件；其中，如果产品已生产，则根据所述层识别码确定所述光刻层对应的光刻胶种类、显影液种类和图形种类，作为所述工艺条件；所述光刻胶种类包括正性光刻胶或负性光刻胶；所述显影液种类包括正显影液或负显影液；所述图形种类包括透光或遮光；如果产品未进行生产，则手动设定所述工艺条件；

根据所述工艺条件生成工艺类型数据信息；

将所述工艺类型数据信息通过所述层识别码标记，并存储至所述图形设计系统中。

2.根据权利要求1所述的光刻工艺条件添加方法，其特征在于，根据所述层识别码确定所述光刻层对应的光刻胶种类包括：

根据所述层识别码获取所述光刻层在涂胶显影机台所使用的光刻胶种类。

3.根据权利要求1所述的光刻工艺条件添加方法，其特征在于，根据所述层识别码确定所述光刻层对应的显影液种类包括：

根据所述层识别码获取所述光刻层在涂胶显影机台所使用的显影液种类。

4.根据权利要求1所述的光刻工艺条件添加方法，其特征在于，根据所述层识别码确定所述光刻层对应的图形种类包括：

根据所述层识别码获取所述光刻层在关键尺寸扫描电子显微镜机台量测的图形种类。

5.一种光刻工艺条件添加装置，用于图形设计系统，其特征在于，所述装置包括：

工艺条件确定模块，用于获取所述图形设计系统中记录的层识别码，根据所述层识别码确定光刻层对应的工艺条件；其中，如果产品已生产，则根据所述层识别码确定所述光刻层对应的光刻胶种类、显影液种类和图形种类，作为所述工艺条件；所述光刻胶种类包括正性光刻胶或负性光刻胶；所述显影液种类包括正显影液或负显影液；所述图形种类包括透光或遮光；如果产品未进行生产，则手动设定所述工艺条件；

数据信息生成模块，用于根据所述工艺条件生成工艺类型数据信息；

数据信息存储模块，用于将所述工艺类型数据信息通过所述层识别码标记，并存储至所述图形设计系统中。

6.一种图形设计系统，其特征在于，包括：

存储子系统，用于存储每个光刻层对应的层识别码；

工艺条件确定子系统，用于获取所述光刻层对应的层识别码，根据所述层识别码确定所述光刻层对应的工艺条件；其中，如果产品已生产，则根据所述层识别码确定所述光刻层对应的光刻胶种类、显影液种类和图形种类，作为所述工艺条件；所述光刻胶种类包括正性光刻胶或负性光刻胶；所述显影液种类包括正显影液或负显影液；所述图形种类包括透光或遮光；如果产品未进行生产，则手动设定所述工艺条件；

数据信息生成子系统，用于根据所述工艺条件生成工艺类型数据信息；

所述存储子系统，还用于将所述工艺类型数据信息与所述层识别码对应存储。

7.根据权利要求6所述的图形设计系统，其特征在于，所述工艺条件确定子系统还用于，根据所述层识别码获取所述光刻层在涂胶显影机台所使用的光刻胶种类。

8.根据权利要求6所述的图形设计系统，其特征在于，所述工艺条件确定子系统还用于，根据所述层识别码获取所述光刻层在涂胶显影机台所使用的显影液种类。

9.根据权利要求6所述的图形设计系统，其特征在于，所述工艺条件确定子系统还用于，根据所述层识别码获取所述光刻层在关键尺寸扫描电子显微镜机台量测的图形种类。

10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-4中任意一项所述的光刻工艺条件添加方法。

11.一种电子设备，其特征在于，包括：

处理器；以及

存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；

其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1-4中任意一项所述的光刻工艺条件添加方法。