[发明专利]蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法

说明书

本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。

技术领域

本发明涉及蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法。尤其是，本发明涉及在掩膜框架具备薄膜状的掩膜主体的蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法。

背景技术

作为平板型显示装置的一例，可举出液晶显示装置、有机EL(Eectroluminescence，电致发光)显示装置。这些显示装置是包含绝缘体、半导体、导体等各种材料的薄膜层叠于基板上而成的结构体。这些薄膜被适当地图案化并进行连接，从而实现作为显示装置的功能。

形成薄膜的方法大体分为气相法、液相法、以及固相法。气相法分类为物理气相法以及化学气相法。作为物理气相法的代表性例子例已知有蒸镀法。蒸镀法中作为简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法通过在高真空下对材料进行加热，从而使材料升华或蒸发而形成材料的蒸气(以下将这些总称为气化)。在用于使该材料沉积的区域(以下称为蒸镀区域)中，气化了的材料固化并沉积从而得到材料的薄膜。为了对蒸镀区域选择性地形成薄膜、而在除此之外的区域(以下称为非蒸镀区域)不沉积材料，使用掩膜(蒸镀掩膜)进行真空蒸镀(参照专利文献1以及专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009－87840号公报

专利文献2：日本特开2013－209710号公报

发明内容

发明所要解决的课题

蒸镀掩膜中，在形成有蒸镀图案的掩膜主体接合有用于固定掩膜主体的掩膜框架。使用镀敷处理而将掩膜主体形成在金属层上，但是在将掩膜主体与掩膜框架接合之后，需要从掩膜主体将金属层剥离。就金属层的剥离而言，多是通过作业者的手工作业来进行，由于作业者的熟练度的不同而蒸镀掩膜的品质参差不均。具体而言，由于金属层的不均匀的剥离，出现薄膜状的掩膜主体产生变形、蒸镀掩膜的蒸镀图案的位置发生偏离的问题。另外，作业时间因作业者而异，但也存在手工作业的金属层剥离比较而言作业时间长这一问题。

本发明鉴于上述问题，以提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置为课题之一。另外，以提升作业者的作业效率为课题之一。

用于解决课题的手段

本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造装置包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。

本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊对金属层进行卷绕，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。

附图说明

图1A是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的俯视图。

图1B是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的剖视图。

图2A是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2B是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2C是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2D是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2E是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。