[发明专利]显示面板及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

像素层，所述像素层包括第一显示区和位于所述第一显示区之外的第二显示区，所述第二显示区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，小于所述第一显示区内相邻像素的距离；

光导层，设置于所述像素层的出光侧，所述光导层包括透射区和折射区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述折射区与所述第二显示区对应设置，所述折射区用于将所述第二显示区的至少部分光线向远离所述第一显示区的方向折射；或者，所述光导层包括透射区和光致发光区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述光致发光区与所述第二显示区对应设置，所述光致发光区具有光致发光像素，在与所述像素层平行的投影方向上，所述光致发光区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，等于所述第一显示区内相邻像素的距离。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二显示区围绕所述第一显示区设置。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述第二显示区内的像素沿所述第一显示区对应边缘呈单列和/或单行设置。

4.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述折射区内布设有多个纳米晶粒。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶粒为纳米球晶、纳米椭球晶和纳米多面体晶中的至少任一种。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶粒的粒径为1nm～200nm。

7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶粒的材料为纳米硅、纳米氮化硅、纳米氮氧化硅、纳米氧化硅和纳米氧化锆中的任一种。

8.一种如权利要求1-7任一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

形成像素层，所述像素层包括第一显示区和位于所述第一显示区之外的第二显示区，所述第二显示区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，小于所述第一显示区内相邻像素的距离；

在所述像素层的出光侧形成光导层，所述光导层包括透射区和折射区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述折射区与所述第二显示区对应设置，所述折射区用于将所述第二显示区的至少部分光线向远离所述第一显示区的方向折射；或者，所述光导层包括透射区和光致发光区，所述透射区与所述第一显示区对应设置，所述光致发光区与所述第二显示区对应设置，所述光致发光区具有光致发光像素，在与所述像素层平行的投影方向上，所述光致发光区内与所述第一显示区内相邻的像素之间的距离，等于所述第一显示区内相邻像素的距离。

9.一种显示装置，其特征在于，包括至少一个如权利要求1-7任一项所述的显示面板。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，包括多个所述显示面板，多个所述显示面板呈矩阵排布。