[发明专利]一种真空鼓在审
申请号: | 202110350033.9 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN112894670A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 陈景文;霍灿广;张占平 | 申请(专利权)人: | 深圳市哈德胜精密科技股份有限公司 |
主分类号: | B25B11/00 | 分类号: | B25B11/00 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 王兆林 |
地址: | 510000 广东省深圳市龙华区福城街道桔塘*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 | ||
本申请涉及真空设备技术领域,特别涉及一种真空鼓,包括真空鼓本体、磁铁和挡片;所述真空鼓本体的表面上设有多个真空吸附孔;所述磁铁镶嵌于所述真空鼓本体的表面上;所述挡片上设有通孔,所述挡片通过所述磁铁活动吸附于所述真空鼓本体的表面上。本申请通过将带有通孔的挡片吸附在带磁铁的真空鼓上,在使用时,可通过左右移动挡片的位置,遮挡部分的真空吸附孔,使得真空鼓在特定位置上产生吸附能力,从而实现调整真空鼓的实际吸附孔位置、真空鼓负压区域的范围以及真空鼓的吸附进气量的目的,以便真空鼓适用于不同规格的产品,有效地解决了现有真空鼓存在吸附孔位置不可改变的技术问题。
技术领域
本申请涉及真空设备技术领域,特别涉及一种真空鼓。
背景技术
传统的真空鼓吸附产品时,只能整个圆周表面吸附产品,无法改变吸附孔的位置,在吸附小产品时候,存在漏气问题,导致吸附能力不足。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提供一种真空鼓,有效地解决了现有真空鼓存在吸附孔位置不可改变的技术问题。
为达到上述目的,本申请提供以下技术方案:
一种真空鼓,包括真空鼓本体、磁铁和挡片;
所述真空鼓本体的表面上设有多个真空吸附孔;
所述磁铁镶嵌于所述真空鼓本体的表面上;
所述挡片上设有通孔,所述挡片通过所述磁铁活动吸附于所述真空鼓本体的表面上。
优选地,在上述的真空鼓中,所述挡片上设有芯片避让槽。
优选地,在上述的真空鼓中,所述芯片避让槽与所述通孔错开设置。
优选地,在上述的真空鼓中,所述真空鼓本体的表面设有长孔铣槽,所述真空吸附孔开设于所述长孔铣槽内。
优选地,在上述的真空鼓中,所述磁铁与所述长孔铣槽错开设置。
优选地,在上述的真空鼓中,所述真空鼓本体上安装有多个分隔条,多个所述分隔条呈圆周环绕设置在所述真空鼓本体的表面上;
每两个相邻所述分隔条之间均形成吸附区域,所述挡片活动安装于各个吸附区域内。
优选地,在上述的真空鼓中,所述挡片的外表面凸设于所述分隔条的外表面。
优选地,在上述的真空鼓中,相邻两个所述分隔条之间分布有多个串联排布且互不相连的挡片。
优选地,在上述的真空鼓中,位于同一吸附区域内的各个所述挡片的总长度小于所述分隔条的长度。
优选地,在上述的真空鼓中,所述真空鼓本体的两端设有连接轴套。
与现有技术相比,本申请的有益效果是:
本申请提供了一种真空鼓,包括真空鼓本体、磁铁和挡片;所述真空鼓本体的表面上设有多个真空吸附孔;所述磁铁镶嵌于所述真空鼓本体的表面上;所述挡片上设有通孔,所述挡片通过所述磁铁活动吸附于所述真空鼓本体的表面上。本申请通过将带有通孔的挡片吸附在带磁铁的真空鼓上,在使用时,可通过左右移动挡片的位置,遮挡部分的真空吸附孔,使得真空鼓在特定位置上产生吸附能力,从而实现调整真空鼓的实际吸附孔位置、真空鼓负压区域的范围以及真空鼓的吸附进气量的目的,以便真空鼓适用于不同规格的产品,有效地解决了现有真空鼓存在吸附孔位置不可改变的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
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