[发明专利]盖板及其制作方法、显示组件、电子设备、贴膜

权利要求书

1.一种盖板，其特征在于，具有一表面；

所述盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述盖板的内部延伸，其中，所述离子注入区的折射率大于所述盖板未形成离子注入区的区域的折射率。

2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区呈柱状；多个所述离子注入区的深度均大于0nm，并小于或等于500nm；多个所述离子注入区横截面的尺寸均为20nm～500nm；相邻的所述离子注入区的间距为20nm～500nm。

3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区的材质包括铅的氧化物和钾的氧化物中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区中铅离子或钾离子的浓度大于10¹⁵ion/cm²。

5.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区的折射率大于1.5。

6.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，光线在所述表面一侧的反射率小于4.7：100。

7.一种盖板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一盖板原材，所述盖板原材具有一表面；

由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区，所述离子注入区的折射率大于所述盖板原材的折射率。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区的步骤中，注入的离子为铅离子和钾离子中的至少一种。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区的步骤中，注入离子的剂量大于10¹⁵ions/cm²，注入能量为1～10MeV。

10.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述离子注入区呈柱状；多个所述离子注入区的深度均大于0nm，并小于或等于500nm；多个所述离子注入区横截面的尺寸均为20nm～500nm；相邻的所述离子注入区的间距为20nm～500nm。

11.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区的步骤进一步包括：

在所述表面上设置一掩模板，所述掩模板间隔设置的多个开口区域，所述开口区域的尺寸为20nm～500nm，相邻的所述开口区域之间的间距为20nm～500nm；

在所述掩模板远离所述表面的一侧，采用离子注入工艺在所述表面的一侧、对应于所述开口区域的区域形成离子注入区。

12.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，进一步包括：

对注入离子后的盖板原材进行退火处理。

13.一种显示组件，其特征在于，包括：

显示屏；

盖板，覆盖于所述显示屏上；

其中，所述盖板为权利要求1-6任一项所述的盖板，所述表面位于远离所述显示屏的一侧。

14.一种电子设备，其特征在于，包括：

壳体，定义有容置空间；以及

显示组件，容置于所述容置空间内，并与所述壳体连接；

其中，所述显示组件为权利要求13所述的显示组件。

15.一种贴膜，其特征在于，具有一表面；

所述贴膜上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述贴膜的内部延伸，其中，所述离子注入区的折射率大于所述贴膜未形成离子注入区的区域的折射率。