[发明专利]一种投影光刻设备的水平校准方法和装置

权利要求书

1.一种投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，所述投影光刻设备包括校准板，所述校准板包括定位标记区域、第一反射区域和至少一个第二反射区域，所述校准板位于所述投影光刻设备的工件台上；所述投影光刻设备的水平校准方法包括以下步骤：

利用所述投影光刻设备中的对准传感器对准所述校准板上定位标记区域，调整所述工件台测量姿态，使所述校准板的一边平行于第一方向，另一边平行于第二方向，其中，所述第一方向垂直于所述第二方向；

控制所述工件台携带所述校准板沿第一方向移动；

利用所述投影光刻设备中的位置传感器实时获取所述工件台中心位置的坐标，记为第一坐标；

利用所述投影光刻设备中的调焦调平传感器向所述校准板上投射光斑，并实时获取所述校准板的第二反射区域反射所述光斑的光强，记为第一光强；

所述第一光强与所述第一坐标形成一一对应关系；

获取所述校准板的第二反射区域的中心位置在工件台坐标系下的位置坐标，记为第二坐标；

根据所述第一光强和所述第一坐标的关系，结合所述第二坐标获取所述光斑的实测位置。

2.根据权利要求1所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，根据所述第一光强和所述第一坐标的关系，结合所述第二坐标获取所述光斑的实测位置包括：

获取所述光斑的中心位置与所述第二反射区域的中心位置重合时所述第二反射区域的中心位置坐标，作为所述光斑的实测位置。

3.根据权利要求2所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，获取所述光斑的中心位置与所述第二反射区域的中心位置重合时所述第二反射区域的中心位置坐标，作为所述光斑的实测位置包括：

以所述第一光强为纵轴，所述第一坐标为横轴建立坐标系，可以获取轴对称图形，其中，所述轴对称图形的轴与所述横轴的交点处的横轴坐标为所述光斑的中心位置与所述第二反射区域的中心位置重合时的工件台中心位置的坐标；

根据所述工件台中心位置的坐标获取所述第二反射区域的中心位置坐标作为所述光斑的实测位置。

4.根据权利要求3所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，

对准所述校准板后，所述工件台的一边与所述第一方向的夹角为θ；

以所述投影光刻设备中的投影物镜的视场坐标系为第一坐标系，获取所述第一坐标表示P(X,Y)；

以所述工件台的中心为原点，以所述工件台的一边为横轴，另一边为纵轴建立直角坐标系为第二坐标系，获取所述第二坐标表示R(U,V)；

根据所述第一坐标表示P(X,Y)和所述第二坐标表示R(U,V)，获取所述光斑的实测位置表示S(X,Y)，

5.根据权利要求4所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，所述θ为零度。

6.根据权利要求1所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，所述校准板的第二反射区域为铬反射区域，所述第一反射区域为石英透明区域，所述第二反射区域的反射率大于所述第一反射区域的反射率。

7.根据权利要求6所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，所述校准板包括多个相同的第二反射区域，多个所述第二反射区域与所述调焦调平传感器向所述校准板上投射的光斑布局相同。

8.根据权利要求6所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，所述校准板包括多个不同的第二反射区域，沿第一方向，多个所述第二反射区域的宽度依次增加，沿第二方向，多个所述第二反射区域的宽度依次增加。

9.根据权利要求1-8任一项所述的投影光刻设备的水平校准方法，其特征在于，所述工件台包括第一区域和第二区域，所述第一区域用于承载基底，所述第二区域为除所述第一区域之外的四角区域，所述校准板位于所述工件台第二区域中的一个角上。

10.一种投影光刻设备的水平校准装置，其特征在于，

包括校准板，所述校准板包括定位标记区域、第一反射区域和至少一个第二反射区域，所述校准板位于所述投影光刻设备的工件台上；

调整模块，利用所述投影光刻设备中的对准传感器对准所述校准板上定位标记区域，调整所述工件台测量姿态，使所述校准板的一边平行于第一方向，另一边平行于第二方向，其中，所述第一方向垂直于所述第二方向；

运动模块，用于控制所述工件台携带所述校准板沿第一方向移动；

第一坐标获取模块，利用所述投影光刻设备中的位置传感器实时获取所述工件台中心位置的坐标，记为第一坐标；

第一光强获取模块，利用所述投影光刻设备中的调焦调平传感器向所述校准板上投射光斑，并实时获取所述校准板的第二反射区域反射所述光斑的光强，记为第一光强；其中，所述第一光强与所述第一坐标形成一一对应关系；

第二坐标获取模块，用于获取所述校准板的第二反射区域的中心位置在工件台坐标系下的位置坐标，记为第二坐标；

实测位置获取模块，用于根据所述第一光强和所述第一坐标的关系，结合所述第二坐标获取所述光斑的实测位置。