[发明专利]测量系统、测量方法及曝光装置在审

专利信息
申请号: 202110353528.7 申请日: 2015-12-22
公开(公告)号: CN113093484A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 上田哲宽 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68;H01L21/027
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;闫剑平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 测量 系统 测量方法 曝光 装置
【权利要求书】:

1.一种测量系统,其特征在于,具备:

能够在包括第一轴和与所述第一轴交叉的第二轴的二维平面内移动的移动体,在所述移动体上载置有物体;

标记检测系统,其能够相对于载置在所述移动体上的所述物体的标记沿所述第一轴的方向扫描测量光,并且能够接受来自所述标记的光束;以及

控制系统,其利用所述标记检测系统执行对所述物体的所述标记的检测,

所述控制系统一边使所述移动体在所述第一轴的方向上移动,一边利用所述标记检测系统相对于所述物体的所述标记沿所述第一轴的方向扫描所述测量光,

所述控制系统基于利用所述标记检测系统接受来自所述标记的所述光束的结果,检测所述标记并且测量所述标记与所述测量光之间的位置关系,

所述控制系统基于测量出的所述位置关系,执行对所述移动体与所述测量光之间的相对位置的调整。

2.根据权利要求1所述的测量系统,其特征在于,

所述物体所具有的所述标记作为第一标记,所述物体还具有与所述第一标记不同的第二标记,

所述控制系统执行对所述相对位置的调整,一边使所述移动体在所述第一轴的方向上移动,一边检测所述第二标记。

3.根据权利要求2所述的测量系统,其特征在于,

所述第二标记是在检测到所述第一标记之后检测的标记。

4.根据权利要求2所述的测量系统,其特征在于,

所述第一标记包括两个以上的标记,

所述控制系统获取所述两个以上的标记的每一个的位置偏移量,并且基于所述位置偏移量,执行对所述移动体与所述测量光之间的所述相对位置的调整。

5.根据权利要求3所述的测量系统,其特征在于,

所述第一标记包括两个以上的标记,

所述控制系统获取所述两个以上的标记的每一个的位置偏移量,并且基于所述位置偏移量,执行对所述移动体与所述测量光之间的所述相对位置的调整。

6.根据权利要求1所述的测量系统,其特征在于,

对所述相对位置的调整包括对在所述第二轴的方向上的所述相对位置进行的调整。

7.根据权利要求4所述的测量系统,其特征在于,

对所述相对位置的调整包括对在所述第二轴的方向上的所述相对位置进行的调整。

8.根据权利要求5所述的测量系统,其特征在于,

对所述相对位置的调整包括对在所述第二轴的方向上的所述相对位置进行的调整。

9.根据权利要求1所述的测量系统,其特征在于,

还具备位置测量系统,该位置测量系统能够测量在所述二维平面内的所述移动体的位置信息,

所述控制系统利用所述位置测量系统以及所述标记检测系统检测所述标记的位置信息。

10.根据权利要求1所述的测量系统,其特征在于,

所述标记检测系统能够检测照射到所述标记上的所述测量光,

所述控制系统基于所述测量光的检测结果,获取所述标记与所述测量光之间的所述位置关系。

11.一种曝光装置,其特征在于,

包括权利要求1所述的测量系统,在所述测量系统中,带有标记的物体载置在所述移动体上,通过对载置在所述移动体上的所述物体照射能量束来对其进行曝光。

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