[发明专利]一种基于向量乱流法的化学蚀刻装置及方法有效

专利信息
申请号: 202110354180.3 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN112739041B 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 凤培国 申请(专利权)人: 武汉宏乔科技有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 谢洋
地址: 430000 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 向量 乱流 化学 蚀刻 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,所述基于向量乱流法的化学蚀刻装置包括:蚀刻液喷嘴、喷管、导流板及目标线路板;所述蚀刻液喷嘴安装于所述喷管下方,所述导流板安装于蚀刻机上方,所述目标线路板通过向量蚀刻区时是由上下传动轴控制其前进速度,其中所述蚀刻液喷嘴用于固定释放预设流量和预设粒径的蚀刻液;

所述导流板包括导流板第一部分、导流板第二部分、导流板第三部分及导流板第四部分;其中:

所述导流板第一部分,用于包裹所述喷管的上半部分;

所述导流板第二部分A区,是以45度连接所述导流板第一部分及所述导流板第三部分,并控制蚀刻液产生方向性乱流,和移动中目标线路板成45度向量,所述45度向量可分析成水平和向下两个分向量,水平分向量将使蚀刻液向前流动,向下分向量则对乱流施以向下的压力,有助于乱流进入微孔和细线路;

所述导流板第三部分B区与所述目标线路板平行1.5 ~ 2公分距离,因容积减小,蚀刻液流速因而增加并产生乱流;

所述导流板第四部分即钛墙与所述导流板第三部分垂直接合C/D/E区,蚀刻液的上半部分在此受到阻挡产生空泡和乱流,并以预设的角度向一侧排放,所述角度决定于喷嘴与喷管设置的角度;蚀刻液的下半部分通过钛墙下方的空栅D区进入传动轴和目标线路板相交形成的E区,通过旋转中传动轴底部时受到强大的压力,促使乱流进入微孔和细线路进行蚀刻。

2.如权利要求1所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,目标线路板面上左右都有一个传动轴,目标线路板下面则有2-4个传动轴以承载行进中目标线路板的重量和蚀刻液压力;上面两个轴除了辅助传动和稳定前进中的目标线路板外,它重要的功能是产生乱流和增加下压向量。

3.如权利要求2所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,目标线路板下面设有3个传动轴。

4.如权利要求1所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻液喷嘴,用于喷出扇形蚀刻液,并控制蚀刻液以预设角度冲击目标线路板;每一支喷嘴覆盖的扇形范围决定于喷嘴至目标线路板之间距离,喷液宽度1-5公分,和扇形角度90-110度,每一个1.25 米 × 1.25米刻蚀区域安置2-3个向量蚀刻单元。

5.如权利要求1所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,以所述喷管为中线,导流板分左右两个对称的蚀刻区,每个区的导流板分第一至第四部分。

6.如权利要求1所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,所述喷嘴为扇形喷嘴,以所述扇形喷嘴的中心为基点,扇形喷液分左右两个半扇形,扇形喷液的全幅度为110度,由左右两个55度半扇形组成;左半扇形喷液流向左侧蚀刻区导流板,并以喷嘴预设角度前进,右半扇形喷液则以反方向流向右侧蚀刻区导流板,并以喷嘴预设角度前进。

7.如权利要求1所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,未被携带至轴底部的蚀刻液因流动被传动轴阻挡而产生乱流,并向一侧以预设角度流动,所述预设角度即扇形喷嘴在喷管上设定之角度10-45度。

8.如权利要求7所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置,其特征在于,未被携带至轴底部的蚀刻液因流动被传动轴阻挡而产生乱流,并向一侧以预设角度流动,所述预设角度即扇形喷嘴在喷管上设定之角度25度。

9.一种蚀刻机,所述蚀刻机包括根据权利要求1至8中任一项所述的基于向量乱流法的化学蚀刻装置。

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