[发明专利]使用自组装核酸形成纳米结构的方法及其纳米结构

权利要求书

1.一种形成纳米结构的方法，所述方法包括：

图案化衬底以形成包括一个或多个区域的图案化衬底，所述一个或多个区域中的每一个经调适以吸附特定核酸结构，并且所述一个或多个区域经配置以显示以下中的一个或多个：

对所述特定核酸结构的拓扑特异性；或

对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性；

将所述图案化衬底与包含所述特定核酸结构的核酸结构接触；以及

将所述特定核酸结构选择性地吸附到所述图案化衬底的相应一个或多个区域，以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装，显示出定向控制及顺序控制中的一个或多个。

2.根据权利要求1所述的方法，其中图案化衬底以形成图案化衬底包括图案化所述衬底以包括一个或多个区域，所述一个或多个区域在尺寸或形态中的一个或多个上对应于所述特定核酸结构的尺寸或形态中的一个或多个。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括形成包括次光刻开口的所述定向自组装。

4.根据权利要求1所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括形成包括次光刻特征的所述定向自组装。

5.根据权利要求4所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成包括次光刻特征的所述定向自组装包括形成所述次光刻特征的周期性图案。

6.根据权利要求4所述的方法，其中在所述图案化衬底上形成包括次光刻特征的所述定向自组装包括形成所述次光刻特征的不规则形状。

7.根据权利要求4所述的方法，进一步包括将所述次光刻特征转印到所述图案化衬底。

8.根据权利要求1所述的方法，其中将所述特定核酸结构选择性地吸附到所述图案化衬底的所述相应一个或多个区域包括将特定脱氧核糖核酸结构选择性地吸附到所述相应的一个或多个区域。

9.根据权利要求1所述的方法，其中将所述特定核酸结构选择性地吸附到所述图案化衬底的所述相应一个或多个区域包括将特定核糖核酸结构选择性地吸附到所述相应一个或多个区域。

10.根据权利要求1所述的方法，其中将所述特定核酸结构选择性地吸附到所述图案化衬底的所述相应一个或多个区域以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括使用定向控制及顺序控制选择性地吸附所述特定核酸结构以形成包括各向异性核酸结构的核酸结构的所述定向自组装。

11.根据权利要求1所述的方法，其中将所述特定核酸结构选择性地吸附到所述图案化衬底的所述相应一个或多个区域以在所述图案化衬底上形成核酸结构的定向自组装包括形成包括各向同性核酸结构的所述定向自组装。

12.根据权利要求1所述的方法，其中图案化衬底以形成包括一个或多个区域的图案化衬底包括形成经调适以吸附相同特定核酸结构的所述一个或多个区域。

13.根据权利要求1所述的方法，其中图案化衬底以形成包括一个或多个区域的图案化衬底包括形成经调适以吸附不同特定核酸结构的所述一个或多个区域。

14.一种纳米结构，其包括：

图案化衬底上的核酸结构的定向自组装，所述图案化衬底包括区域以及选择性吸附到所述图案化衬底的所述区域中的每一个的核酸结构的所述定向自组装的特定核酸结构，所述区域中的每一个在大小或形态中的一个或多个上对应于所述特定核酸结构的大小或形态中的一个或多个。

15.根据权利要求14所述的纳米结构，其中所述区域中的每一个经制定以显示对所述特定核酸结构的拓扑特异性。

16.根据权利要求14所述的纳米结构，其中所述区域中的每一个经制定以显示对所述特定核酸结构的拓扑特异性和化学特异性。