[发明专利]具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法

说明书

本发明公开了一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法，具有牺牲层的镀腔内壁构件，包括镀腔内壁构件和形成于所述镀腔内壁构件表面的牺牲层，所述牺牲层在清洗过程中被去除。对被杂质层污染后的所述具有牺牲层的镀腔内壁构件用酸清洗剂进行清洗，所述清洗过程中，所述杂质层和所述牺牲层均被去除，得到清洗后的镀腔内壁构件。本发明的清洗方法付不仅能够清除掉杂质层，同时不伤害原有镀腔内壁构件。

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备清洗技术领域，更具体地，涉及一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法。

背景技术

在真空镀膜设备中，镀腔内壁构件在镀膜一段时间后，表面累积的杂质层越来越厚，且杂质层厚度不均匀，由于杂质层与镀腔内壁构件的粘附力较小，且不同时间段沉积的杂质层之间的界面结合强度问题，导致杂质层易脱落，对镀膜产品表面产生污染，从而极大影响镀膜产品的良率，因此，需对镀腔内壁构件进行定期清洗。

现有技术中，对镀腔内壁构件进行酸洗，以去除沉积的杂质层，然而，酸洗溶剂也易腐蚀原有的镀腔内壁构件，如何确保清除掉杂质层的同时不伤害原有镀腔内壁构件是清洗过程亟待解决的关键问题。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法，能够清除掉杂质层，同时不伤害原有镀腔内壁构件。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种具有牺牲层的镀腔内壁构件，包括镀腔内壁构件和形成于所述镀腔内壁构件表面的牺牲层，所述牺牲层在清洗过程中被去除。

本发明还提供了一种具有牺牲层的镀腔内壁构件的制备方法，包括以下过程：

提供镀腔内壁构件；

在所述镀腔内壁构件的表面形成牺牲层，所述牺牲层在清洗过程中被去除。

本发明进一步提供了上述具有牺牲层的镀腔内壁构件的清洗方法，对被杂质层污染后的所述具有牺牲层的镀腔内壁构件用酸清洗剂进行清洗，所述清洗过程中，所述杂质层和所述牺牲层均被去除，得到清洗后的镀腔内壁构件。

实施本发明实施例，将具有如下有益效果：

本发明实施例通过设置牺牲层，使牺牲层在清洗过程中被腐蚀去掉时，有利于带动位于其上方的杂质层一起被去除，提高杂质层的去除率和去除效率，同时，牺牲层对镀腔内壁构件形成保护，避免镀腔内壁构件被伤害。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

其中：

图1是实施例1制得的具有牺牲层的铝镀腔内壁构件的照片。

图2是图1所示的具有牺牲层的铝镀腔内壁构件的截面结构示意图。

图3是实施例1制得的具有牺牲层的铝镀腔内壁构件表面的AFM形貌表征图片。

图4是图3所示的样品的截面示意图。

图5是部分覆盖光刻胶的酸洗前的样品结构示意图。

图6是酸洗后的样品照片。

图7是图6所示样品在表面轮廓仪下的高度表征图。

具体实施方式