[发明专利]一种新型纳米压印设备及其压印方法

权利要求书

1.一种新型纳米压印设备，其特征在于，包括：

吸盘，所述吸盘可升降，且在吸盘的上表面设置有真空槽，与所述真空槽连接有真空发生装置，以在吸盘上表面形成负压，用于吸附晶圆；

支撑装置，其设置有两个，分别位于所述吸盘的左侧及右侧，其中，左侧支撑装置上连接有可升降的第一升降块，右侧支撑装置上连接有可升降的第二升降块和第三升降块，所述左侧支撑装置以及右侧支撑装置上分别设置有两限位块，以相应的限位第一升降块、第二升降块以及第三升降块的升降位置；

滴胶装置，其位于左侧支撑装置与吸盘之间，所述滴胶装置包括移动机构，以及与所述移动机构连接有可转动的滴胶嘴组件，所述滴胶嘴组件转动至工作位置后，并通过移动机构移动，可向晶圆的不同位置滴胶；

涂布装置，与所述第三升降块连接，所述涂布装置具有可伸缩的涂布块，以在所述晶圆上滴胶后，通过涂布块的伸缩涂布胶液，所述涂布块为条形，所述涂布块上设置有涂布面，所述涂布面朝向晶圆，所述涂布块的两端连接有厚度控制板，以控制胶液涂布厚度，所述涂布块通过伸缩杆第三升降块连接，所述涂布面包括四个不相同的涂布面，所述涂布块可转动，以使不同的涂布面朝向晶圆控制不同的涂胶厚度；

固定装置，用于固定PET，包括连接于所述左侧支撑装置上的第一固定装置，以及连接于所述第二升降块上的第二固定装置，用于固定PET的两端，且所述第二固定装置的高度位于第一固定装置以上；

压印曝光装置，其与第一升降块连接，压印曝光装置具有可伸缩的压印头，压印头朝向压印方向的角为圆弧形，压印头可与PET上表面相抵，并向第二固定装置的方向伸缩，所述压印头上具有透光区以及与透光区对应的紫外灯；

胶液回收装置，其具有收集槽，所述收集槽位于真空槽外侧，所述收集槽通过收集管连接有废液收集瓶，以收集压印溢出的废胶液。

2.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于：所述真空发生装置包括设置于真空槽内的真空孔以及与真空孔连接的真空泵。

3.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于：所述左侧支撑装置以及右侧支撑装置均为支撑杆，所述第一升降块、第二升降块、第三升降块均为升降电机，所述第一升降块位于所述第一固定装置上方，所述第二升降块位于所述第三升降块的下方。

4.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于：所述移动机构为滑轨，所述滴胶嘴组件包括连接于滑轨上的旋转电机，与旋转电机连接的刚性胶管，以及连接于胶管两管口上的胶嘴以及胶瓶。

5.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于：所述第一固定装置包括水平设置的横向支撑杆，以及连接于横向支撑杆上用于固定PET一端的固定卡，所述横向支撑杆朝向右侧支撑装置的方向设置。

6.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于：所述二固定装置包括连接于所述第二升降块上用于固定PET另一端的固定卡。

7.根据权利要求1或5所述的新型纳米压印设备，其特征在于：所述固定卡包括上固定板，以及与所述上固定板对应的下固定板，所述上固定板与下固定板之间可连接，以使所述PET的边缘固定于所述上固定板与下固定板之间。

8.一种采用权利要求1-7任一权利要求书所述的新型纳米压印设备的压印方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1：上料

将晶圆放在吸盘上，通过负压吸附固定晶圆，将PET的两端通过所述第一固定装置以及第二固定装置固定；

S2：点胶

吸盘提升至点胶位置，滴胶嘴组件转动至工作位置后，并通过移动机构移动，向晶圆的不同位置滴胶，点胶完成后，滴胶嘴组件旋转至起点位置；

S3：涂布及废胶液回收

转动涂布块，选择朝向晶圆的涂布面后，固定涂布块，涂布块伸出至胶液远离涂布方向一端对应的a位置，吸盘提升至涂布位置，涂布块逐步向涂布方向回拉至b位置；

溢出的多余胶液溢流至回收槽内，通过收集管回收至废液收集瓶；

S4：压印

吸盘提升至压印位置，以使晶圆上的胶体与靠近第一固定装置上PET的下表面接触，压印曝光装置在第一升降块的移动下向下移动，以使压印头与PET的上表面相抵，紫外灯打开，压印头向第二固定装置的方向移动的同时，第二升降块向下移动，第二固定装置在第二升降块的带动下，使PET另一端向下移动，PET自靠近左侧支撑装置一侧向右侧支撑装置一侧逐步与胶液接触，并通过压印头压印、紫外灯固化，完成压印，紫外灯关闭；

S5：脱模

压印曝光装置上的压印头回至起点，第二升降块向上移动，第二固定装置在第二升降块的带动下，使PET另一端向上移动，PET自靠近右侧支撑装置一侧向左侧支撑装置一侧逐步与固化的胶液分离，完成脱模，吸盘回至起点。