[发明专利]一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件及制备方法

权利要求书

1.一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件，其特征在于，包括：

若干个膜厚标准块(1)、金属基体(2)以及可拆卸式支撑框架(3)；

所述膜厚标准块(1)与所述金属基体(2)按照预定顺序对齐叠加设置于可拆卸式支撑框架(3)中，所述可拆卸式支撑框架(3)用于将所述膜厚标准块(1)与所述金属基体(2)的边缘部分固定，所述膜厚标准块(1)包括样品膜(4)和第一固定支撑框架(5)，所述样品膜(4)的边缘部分固定设置于所述第一固定支撑框架(5)内部，使所述样品膜(4)表面部分悬空，所述样品膜(4)包括平面基体(6)和单种靶材膜层(7)，所述单种靶材膜层(7)均匀镀制在所述平面基体(6)表面，所述平面基体(6)对X射线的照射不敏感，所述膜厚标准块(1)还包括第二固定支撑框架(8)，所述金属基体(2)的边缘部分固定设置于所述第二固定支撑框架(8)内部，使所述金属基体(2)表面部分悬空；

所述膜厚标准块(1)与所述金属基体(2)采用单种靶材制备；

所述靶材对X射线的照射敏感。

2.如权利要求1所述的一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件，其特征在于，所述平面基体采用荧光膜；

所述荧光膜的金属组份不高于十万分之一，且表面平整，厚度小于10微米，厚度不均匀性不超过3％。

3.如权利要求1所述的一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件，其特征在于，所述第一固定支撑框架(5)和第二固定支撑框架(8)采用中空薄片框架；所述中空薄片框架的厚度小于0.2毫米。

4.如权利要求1所述的一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件，其特征在于，所述靶材纯度不低于99.99％。

5.如权利要求1-4任一项所述的一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件的制备方法，其特征在于，包括：

测量平面基体(6)的面积和质量，并计算得到平面基体(6)的单位面积质量MA₁；

采用掩膜框架(9)固定平面基体(6)，使所述平面基体(6)表面保持平整；

将镀膜机设置为预定的厚度参数并且采用对X射线敏感的靶材对所述平面基体(6)的表面进行镀制单种靶材膜层(7)，得到初始的样品膜；

对初始的样品膜按照预定方式裁减，得到样品膜(4)；

测量所述样品膜(4)的面积和质量，计算得到样品膜(4)的单位面积质量MA₂；

根据所述平面基体(6)的单位面积质量MA₁、所述样品膜的单位面积质量MA₂以及所述靶材的密度ρ，计算得到所述样品膜的厚度h：

将所述样品膜(4)设置于第一固定支撑框架(5)中，使所述样品膜表面保持平整；

将所述靶材的化学名称和所述样品膜(4)的厚度h标定在所述第一固定支撑框架(5)上，得到膜厚标准块(1)；

置换不同的靶材，并重复上述步骤，直至，制得N块采用不同靶材的膜厚标准块(1)，N为大于等于1的自然数；

将制得的N块膜厚标准块(1)和预先制备好的金属基体(2)按照预定顺序对齐叠加设置于可拆卸式支撑框架(3)中，得到所述自支撑多材料镀层膜厚标准套件，所述可拆卸式支撑框架(3)用于将所述膜厚标准块(1)与所述金属基体(2)的边缘部分固定。

6.如权利要求5所述的一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件的制备方法，其特征在于，采用影像测量仪测量平面基体(6)的面积；以及，采用微量电子天平测量平面基体(6)的质量。

7.权利要求6所述的一种自支撑多材料镀层膜厚标准套件的制备方法，其特征在于，所述镀膜机采用磁控溅射镀膜机，所述预定的厚度参数小于10微米。