[发明专利]一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置在审

专利信息
申请号: 202110363591.9 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113084356A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 刘敏 申请(专利权)人: 莱西市亨元产业互联网中心
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/70;B23K26/146
代理公司: 深圳紫晴专利代理事务所(普通合伙) 44646 代理人: 梁彦
地址: 266000 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 pet 薄膜 高速 镭射 刻蚀 装置
【说明书】:

本发明公开了一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置,涉及薄膜刻蚀技术领域,解决了现有装置不能在PET薄膜进行快速镭射刻蚀的同时保持较高刻蚀质量的问题。一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置,包括工作台;所述工作台底部固定连接有底座板;所述底座板数量设置为二组;所述工作台顶部固定连接有横向往复丝杠;所述横向往复丝杠数量设置为二组;所述横向往复丝杠丝杆右侧通过同轴连接设置有锥齿轮组A;所述锥齿轮组A内锥齿轮通过同轴连接设置有连杆A;通过步进电机带动缠绕有PET薄膜的承接辊步进运行,通过张紧辊挤压薄膜顶部,使薄膜传动过程中可以保持良好的稳定性,使PET薄膜进行快速镭射刻蚀的同时保持较高刻蚀质量。

技术领域

本发明涉及薄膜刻蚀技术领域,具体为一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置。

背景技术

用于制作器件的薄膜材料,一般都要求印刷电路版上的铜膜是具有一定形状和走向的线条,因此对各种薄膜材料的形状和大小的要求就更为复杂和严格,形成具有一定形状和大小的图形薄膜的方法是在镀膜过程中使用掩模板,使基体表面裸露部分生长有薄膜材料,而被掩盖部分则不存在薄膜。

经过检索例如专利号为CN111408848A的专利公开了一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置,涉及到激光刻蚀技术领域。包括操作板,刻蚀组件,所述刻蚀组件设置操作板的上方;所述操作板的下方设置有用来移动刻蚀组件的驱动组件,所述操作板的侧面设置有PET薄膜刻蚀盘。有益效果:利用高速镭射刻蚀装置对PET薄膜进行刻蚀,提高了薄膜的刻蚀速度,并且刻蚀深度能够得到控制,使刻蚀的深度更加均匀,并且镭射激光刻蚀不需要化学药品对薄膜的表面进行清洗防止了化学药品对环境造成污染,提高了产品的合格率。通过控制电机的转动和电动推杆的伸缩,代替了传统的人工刻蚀,使薄膜的刻蚀更加更加精确,提高了刻蚀的精确性,提升了PET薄膜的刻蚀质量,提高了刻蚀薄膜的加工效率。

再例如专利号为CN101307444A的专利公开了一种蚀刻剂和利用该蚀刻剂制造包括薄膜晶体管的电子装置的方法。该蚀刻剂包括氟离子(F-)源、过氧化氢(H2O2)、硫酸盐、磷酸盐、唑类化合物和溶剂。该蚀刻剂和包括薄膜晶体管的电子装置的制造方法可批量地蚀刻包括铜层和钛或钛合金层的多层膜,并可以以高产量提供具有良好的图案轮廓的薄膜晶体管。当对该蚀刻剂进行再利用时,可保持均匀的蚀刻性能,且蚀刻剂的更换周期长,因此可节约成本。

但是,现有PET薄膜用高速镭射刻蚀装置装置一般为箱型结构,未设置可以提高PET薄膜镭射刻蚀速度的结构,工作效率较低,未设置可以对激光工作部进行有效降温的结构,装置的安全性较差,未设置薄膜传动过程中可以使其保持良好稳定性的结构,不能在PET薄膜进行快速镭射刻蚀的同时保持较高刻蚀质量,实用性较差。

因此,不满足现有的需求,对此我们提出了一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置。

发明内容

(一)技术问题

本发明的目的在于提供一种PET薄膜用高速镭射刻蚀装置,以解决上述背景技术中提出的现有装置的一般为箱型结构,未设置可以提高PET薄膜镭射刻蚀速度的结构,工作效率较低,未设置可以对激光工作部进行有效降温的结构,装置的安全性较差,未设置薄膜传动过程中可以使其保持良好稳定性的结构,不能在PET薄膜进行快速镭射刻蚀的同时保持较高刻蚀质量,实用性较差的问题。

(二)技术方案

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