[发明专利]一种DLC类金刚石涂层及制备方法

权利要求书

1.一种DLC类金刚石涂层，包括基体，其特征在于，还包括：

覆在基体上的TiN底层和覆在TiN底层上的TiCN过渡层，以及覆在TiCN过渡层上的TiAlCN涂层。

2.根据权利要求1所述的一种DLC类金刚石涂层，其特征在于：所述TiN底层的厚度为200-600nm，TiCN过渡层的厚度为120-200nm，TiAlCN涂层的厚度为300-800nm。

3.一种DLC类金刚石涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、对基体表面预处理；

S2、在预处理的基体上制得TiN底层；

S3、在上述S2所制得的TiN底层上进一步制得TiCN过渡层；

S4、在上述S3所制得的TiCN过渡层上进一步制得TiAlCN涂层。

4.根据权利要求3所述的一种DLC类金刚石涂层的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述基体表面预处理的方法为：

配置清洗液；将基体放入清洗液中，水浴加热清洗液并保温20min；从清洗液中取出基体，经丙酮超声波清洗15min后，再用蒸馏水冲洗基体；用干燥N₂将基体表面吹干。

5.根据权利要求4所述的一种DLC类金刚石涂层的制备方法，其特征在于：在对基体表面预处理时，水浴加热清洗液至80-90℃。

6.根据权利要求3所述的一种DLC类金刚石涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤S2中，在预处理的基体上制得TiN底层的方法为：

将预处理后的基体放入溅射室内，基体温度为300℃，基体偏压为-50V，抽真空至溅射室内的真空度达到1×10^-3Pa；向溅射室内通入Ar气，其流量为30cm³/min，并调整溅射室内的气压至1.0Pa，Ti靶脉冲电源频率为200kHz，功率为600W，辉光放电后对纯度为99.9%的Ti靶表面进行预溅射15min；保持Ar气流量不变，再通入反应气体N₂，其流量为30cm³/min，经外加电压等离子化后，在基体上沉积TiN底层，沉积时间为90min。

7.根据权利要求3所述的一种DLC类金刚石涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤S3中，在所述TiN底层上进一步制得TiCN过渡层的方法为：

在完成TiN底层的沉积后，调整溅射室内的气压至339×10^-3Pa，C靶连接直流电源，C靶脉冲电源频率为200kHz，功率为200W，沉积时间为60min，保持其他条件不变，在TiN底层上沉积TiCN过渡层。

8.根据权利要求3所述的一种DLC类金刚石涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤S4中，在所述TiCN过渡层上进一步制得TiAlCN涂层的方法为：

在完成TiCN过渡层的沉积后，调整C靶功率为450W，Al靶连接直流电源，电源频率为200kHz，功率为200W，Ar气流量为70cm³/min，沉积时间为120min，保持其他条件不变，在TiCN过渡层上沉积TiAlCN涂层。