[发明专利]以硅掺杂碳化聚合物点为构筑基元的超硬耐磨透明膜层材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110366494.5 申请日: 2021-04-06
公开(公告)号: CN113105766B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 杨柏;潘凯波;朱志承;乐妲;刘崇铭;李睿;王静博;韩梅 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: C09D1/00 分类号: C09D1/00;C01B32/15
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 刘世纯;王恩远
地址: 130012 吉林省长春市*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 掺杂 碳化 聚合物 构筑 耐磨 透明 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种以硅掺杂碳化聚合物点为构筑基元的超硬耐磨透明膜层的制备方法,其步骤如下:

(1)通过水热法制备Si-CPDs

称取摩尔比为1:0.1~4的氨基硅氧烷和柠檬酸溶于去离子水中,搅拌至完全溶解;将得到的混合溶液转移至聚四氟内衬的反应釜中,拧紧使完全密封;将反应釜置于160~200℃的烘箱中,反应3~8小时;然后取出反应釜并自然冷却至室温,得到淡黄色透明的Si-CPDs水溶液,再用0.22μm的聚醚砜滤膜过滤,得到表面含硅羟基的Si-CPDs固化液;所述氨基硅氧烷的结构式如下之一所示,

(2)通过涂覆和固化得到复合膜层

将步骤(1)得到的表面含硅羟基的Si-CPDs固化液旋涂、浸涂或喷涂到Plasma处理3~5分钟的载玻片表面,在60~200℃下固化0.5~3小时,从而得到超硬的、耐磨抗划伤的以硅掺杂碳化聚合物点为构筑基元的超硬耐磨透明膜层。

2.一种以硅掺杂碳化聚合物点为构筑基元的超硬耐磨透明膜层,其特征在于:是由权利要求1所述的方法制备得到。

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