[发明专利]显示面板的排版方法、排版系统及电子设备

说明书

本申请公开了一种显示面板的排版方法、系统及电子设备，该显示面板的排版方法包括：获取显示面板的产品信息，所述产品信息包括显示面板尺寸以及显示面板内各膜层的制程信息；根据所述产品信息确定各膜层所需的掩膜板；对所述掩膜板进行排版，根据各膜层的制程信息设定至少一掩膜板位置，每一掩膜板用以至少一膜层制程；以及设计优化排版方案，在一张制作板上对至少一显示面板进行排版；所述优化排版方案包括每一显示面板的位置，在每一膜层制程中，所述制作板能够移动至用于该制程的一掩膜板处，使一显示面板需要被图案化的位置与该掩膜板相对设置。

技术领域

本申请涉及半导体制造领域，尤其涉及一种显示面板的排版方法、系统、电子设备。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)及有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Display，OLED)等各种平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

光刻作为半导体制造过程中的一道非常重要的工序，它是将掩模板(mask)上的图形通过曝光转移到晶圆上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要是由相应的曝光机来完成。而光刻技术的发展或者说曝光机技术的进步主要是围绕着线宽、套刻(overlay)精度和产量这三大指标展开的。

目前，在刻蚀的过程中，由于阵列基板(Array)或者彩膜基板(Color Filter,CF)的均有多层膜层组成，例如阵列基板(Array)具有多个薄膜晶体管，每个薄膜晶体管包括遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、钝化层、源漏极层等膜层。其中，这些膜层的图案都有所不同，甚至有些膜层还得相互实现电连接，因此，在制备这些膜层的过程中需要采用不同的掩膜板。

为了获得不同图案的膜层，掩膜板的排布需考虑因素较多，如选择曝光机台不同，使用的掩膜板的类型也不相同。因此，各膜层的选用的掩膜板、曝光装置的型号需要人工选择，在掩膜板排版及显示面板在制作板上排版的过程中，需要考量多种设计规则，并且必须符合所以是设计规则，才能完成制作板的利用率，从而获得符合需要的版图。

该排版制程还需考虑掩膜板的设计规则(design rule)需要实际制程的可行性，如成膜保证区的限制，成膜曝光时行程限制等，同时在涉及不同掩膜板(mask)设计和实际制作时，根据其光学系统和成像的不同，和实际制程匹配时，存在旋转/镜像等关系，新手容易出错，经验依赖性高，考虑细项较多，排版费时费力。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种显示面板的排版方法、系统、电子设备，以解决掩膜板排版及显示面板在制作板上排版的过程中，需要考量多种设计规则，对设计人员的设计经验依赖性高、排版费时费力的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板的排版方法，包括如下步骤：

获取显示面板的产品信息，所述产品信息包括显示面板尺寸以及显示面板内各膜层的制程信息；

根据所述产品信息确定各膜层所需的掩膜板；对所述掩膜板进行排版，根据各膜层的制程信息设定至少一掩膜板位置，每一掩膜板用以至少一膜层制程；以及

设计优化排版方案，在一张制作板上对至少一显示面板进行排版；所述优化排版方案包括每一显示面板的位置，在每一膜层制程中，所述制作板能够移动至用于该制程的一掩膜板处，使一显示面板需要被图案化的位置与该掩膜板相对设置。

进一步地，设定优化排版方案的步骤包括如下步骤：

预设相邻的两个显示面板的间距值；

根据所述制作板的成膜有效区位置、所述显示面板的尺寸及所述间距值制定一排版方案；