[发明专利]一种清洁设备及自清洁方法

权利要求书

1.一种清洁设备，其特征在于，包括：

基座(1)，所述基座(1)包括第一对接部、设于所述第一对接部上的第一导电端子(11)和用电模块；

清洁组件(2)，所述清洁组件(2)包括第二对接部、设于所述第二对接部上的第二导电端子(21)和至少一个供电模块；

所述第一对接部和所述第二对接部可拆卸连接，所述基座(1)和所述清洁组件(2)连接后所述第一导电端子(11)和所述第二导电端子(21)抵接，所述清洁组件(2)的所述供电模块通过所述第二导电端子(21)和所述第一导电端子(11)能为所述基座(1)的所述用电模块供电；

所述基座(1)被配置为与所述清洁组件(2)连接后能对所述清洁组件(2)进行清洗。

2.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述基座(1)还包括信号触发件，所述清洁组件(2)还包括感测组件和供电控制模块；所述清洁组件(2)与所述基座(1)对接时，所述感测组件和所述信号触发件配合产生感测信号，所述供电控制模块在接收到所述感测信号后，所述供电模块与所述第二导电端子(21)电连接。

3.根据权利要求2所述的清洁设备，其特征在于，所述感测组件为红外线发生及接收器，所述信号触发件为触发杆，所述触发杆对所述红外路径形成遮挡后产生所述感测信号；或者

所述感测组件为霍尔元件，所述信号触发件为永磁铁，所述霍尔元件检测到磁场变化时，产生所述感测信号。

4.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述第一对接部配置为设于所述基座(1)的壳体上的卡槽(12)，所述清洁组件(2)包括操作杆(23)，所述操作杆(23)设有转接头(22)，所述第二对接部配置为所述操作杆(23)或者所述转接头(22)，所述基座(1)与所述清洁组件(2)对接时，所述卡槽(12)和所述操作杆(23)或者所述转接头(22)卡接。

5.根据权利要求4所述的清洁设备，其特征在于，所述第一导电端子(11)包括两个分别为正、负极的铜柱，所述第二导电端子(21)包括两个分别为正、负极的铜片，两个所述铜片分别能与两个所述铜柱正负极相对应地抵接，所述铜柱设于所述卡槽(12)内，所述铜片设于所述操作杆(23)或者所述转接头(22)。

6.根据权利要求5所述的清洁设备，其特征在于，所述基座(1)包括清洁槽(15)和储水件，所述储水件包括第一水箱组件和第二水箱组件，所述第一水箱组件包括第一水箱(13)和第一水泵，所述第二水箱组件包括第二水箱(14)和第二水泵，所述第一水泵用于将所述第一水箱(13)中的水抽至所述清洁槽(15)，所述第二水泵用于将所述清洁槽(15)中的水抽至所述第二水箱(14)。

7.根据权利要求6所述的清洁设备，其特征在于，所述清洁组件(2)包括清洁刷(24)，所述清洁刷(24)与所述操作杆(23)通过所述转接头(22)连接，所述清洁刷(24)能放置于所述清洁槽(15)内清洗，所述清洁槽(15)内设有棱条(153)，所述棱条(153)用于刮擦转动的所述清洁刷(24)。

8.一种清洁设备的自清洁方法，适用于权利要求1-7任一项所述的清洁设备，其特征在于，所述清洁设备的自清洁方法包括以下步骤：

S1、将所述基座(1)和所述清洁组件(2)对接；

S2、所述清洁组件(2)的供电模块向所述基座(1)的用电模块供电；

S3、所述基座(1)和所述清洁组件(2)分别执行自清洁流程。

9.根据权利要求8所述的自清洁方法，其特征在于，所述清洁组件(2)包括感测组件和供电控制模块，所述基座(1)还包括信号触发件；

所述自清洁方法还包括：

所述感测组件与所述信号触发件配合产生感测信号，所述供电控制模块接收到所述感测信号后，执行S2。

10.根据权利要求8所述的自清洁方法，其特征在于，所述清洁组件(2)包括清洁刷(24)；所述基座(1)包括清洁槽(15)及储水件，所述储水件包括第一水箱组件和第二水箱组件，所述第一水箱组件包括第一水箱(13)及第一水泵，所述第二水箱组件包括第二水箱(14)及第二水泵；

所述清洁组件(2)的自清洁流程包括：

在预定时间内所述清洁刷(24)保持运行；

所述基座(1)的自清洁流程包括：

在所述预定时间的第一时间段内，所述第一水泵从所述第一水箱(13)向所述清洁槽(15)注水，在所述预定时间的第二时间段内，所述第二水泵从所述清洁槽(15)向所述第二水箱(14)抽水。