[发明专利]内置式永磁电机转子永磁体磁极及其PC值评估方法有效

专利信息
申请号: 202110372935.2 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113113990B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 黄苏融;张琪;曹海东;应红亮;罗建;王爽;王婧雯 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H02K1/276 分类号: H02K1/276;H02K1/24
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 201900*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 内置 永磁 电机 转子 永磁体 磁极 及其 pc 评估 方法
【权利要求书】:

1.一种内置式永磁电机转子永磁体磁极,其特征在于,包括嵌入在电机转子上的永磁体磁槽内的永磁体拼块磁极,所述永磁体拼块磁极由多块永磁体磁极沿电机转子周向拼合形成,多块永磁体磁极为非均匀分块的永磁体磁极;

所述电机转子的轴向方向为永磁体磁极面积的长度方向;

所述电机转子的径向方向为永磁体磁极磁化的高度方向;

所述电机转子的周向方向为永磁体磁极面积的宽度方向;

多块永磁体磁极的长度相同,宽度通过该永磁体磁极所在的区域确定;

设定在q轴区域的永磁体磁极的宽度为WA,在非q轴区域的永磁体磁极的宽度为WB,WA小于WB

在q轴区域的永磁体磁极的宽度WA通过第一永磁体PC阈值确定,在非q轴区域的永磁体磁极的宽度WB通过第二永磁体PC阈值确定,第一永磁体PC阈值大于第二永磁体PC阈值;

以永磁体尺寸PC值作为永磁体磁极抗退磁能力等级参数,PC值越大、抗退磁能力等级越高;

永磁体磁极的抗退磁能力等级PC值取决于永磁体尺寸PC值,矩形永磁体尺寸PC值计算:

h为永磁体磁化方向高度,W为矩形永磁体宽度,L为矩形永磁体长度;

所述内置式永磁电机有单层“一”字型、单层与多层“V”字型、单层与多层“U”字型和“倒三角”型内置式转子永磁体均匀拼块磁极结构;

所述单层“一”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,每块永磁体高度尺寸h和轴向长度尺寸L均保持一致;依据PCq≥2的准则,确定q轴区域永磁体宽度Wq;其余各拼块永磁体的宽度W依据PC≥1的准则进行确定,其中W大于Wq;将WA作为q轴区域,将WB作为非q轴区域;q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥2的要求;非q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥1的要求;

所述单层与多层“V”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构;对于内层“V”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,依据PCq≥2的准则,确定q轴区域永磁体宽度尺寸Wq;其余各拼块永磁体的宽度W依据PC≥1的准则确定;对于外层“V”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,依据PC≥1的准则,确定永磁体宽度尺寸W;其中W大于Wq;将WA作为q轴区域,将WB作为非q轴区域;q轴区域的永磁体磁极的数量可以是一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥2的要求;非q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥1的要求;

所述单层与多层“U”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,对于内层“U”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,依据PCq≥2的准则,确定q轴区域永磁体宽度尺寸Wq;其余各拼块永磁体宽度W依据PC≥1的准则确定;对于外层“U”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,依据PC≥1的准则,确定永磁体宽度尺寸W;其中W大于Wq;将WA作为q轴区域,将WB作为非q轴区域;q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥2的要求;非q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥1的要求;

“倒三角”型内置式转子永磁体拼块磁极结构;对于内层“V”字型内置式转子永磁体拼块磁极结构,依据PCq≥2的准则,确定q轴区域永磁体宽度尺寸Wq;其余各拼块永磁体的宽度W依据PC≥1的准则确定;对于外层“一”内置式转子永磁体拼块磁极,依据PC≥1的准则,确定永磁体宽度尺寸W;其中W大于Wq;将WA作为q轴区域,将WB作为非q轴区域;q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥2的要求;非q轴区域的永磁体磁极的数量为一个或多个,每个永磁体磁极的宽度满足PC≥1的要求。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110372935.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top