[发明专利]一种镀膜材料及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种镀膜材料，其特征在于，所述镀膜材料的化学组成中包括Ta₂O_5-x相的氧化钽，其中，0.1＜x1.5。

2.根据权利要求1所述的镀膜材料，其特征在于，所述镀膜材料为混合相，其中，Ta₂O₅相所占比例不高于50％，其余为Ta₂O_5-x相。

3.一种如权利要求1所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，包括步骤：

将Ta₂O₅和Ta的混合粉末预制成混合颗粒，并将所述混合颗粒放置于坩埚中，将所述坩埚放置于真空炉内；

对所述真空炉进行抽真空，当所述真空炉内压力达到预设第一压力时开始加热，并在预设第一功率下维持预设时间后，再以预设升温速率继续升温，直至所述真空炉的功率达到预设第二功率后，维持所述第二功率进行加热；

待所述真空炉内温度达到预设温度且真空压力上升并达到预设第二压力时，停止加热并冷却，从所述坩埚中取出反应产物，并对所述反应产物进行破碎后过筛，得到镀膜材料。

4.根据权利要求3所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述混合粉末中Ta的质量为所述混合粉末质量的0.5％～10％，Ta₂O₅的纯度不低于99.9％，Ta的纯度不低于99％。

5.根据权利要求3所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述第一功率为35％～45％，所述第二功率为55％～65％，所述预设温度为1700℃-1800℃。

6.根据权利要求5所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述预设时间为1～2h，所述升温速率为每小时升温8％～12％。

7.根据权利要求3所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述第一压力为0.5×10^-1～5×10^-1Pa，所述第二压力为0.5×10^-1～5×10^-1Pa。

8.根据权利要求3所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述真空炉包括真空系统和保温层，所述保温层内设置有坩埚套，所述保温层与所述坩埚套之间设置有石墨加热体，所述真空系统包括旋片泵、洛茨泵以及扩散泵。

9.根据权利要求3所述的镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述坩埚的材质为石墨、钨和钼中的一种。

10.一种如权利要求1或2所述的镀膜材料在真空蒸发镀膜领域中的应用。