[发明专利]面曝光光斑光强匀化方法及其应用

权利要求书

1.面曝光光斑光强匀化方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、对stl模型进行切片处理获得切片图像，并对切片图像进行灰度处理，生成二值灰度图像；

S2、生成高斯补偿图像，获得参数可调的高斯晕影，所述参数包括高斯峰值和高斯半径，所述高斯晕影的峰值为低灰度值，补偿中心区域的灰度值最低，且灰度值由补偿中心区域沿高斯半径向外呈逐渐升高的趋势，步骤S1获得的二值灰度图像与步骤S2获得高斯补偿图像具有相同尺寸；

S3、将步骤S1获得的二值灰度图像与步骤S2获得的高斯晕影进行矩阵点乘运算，运算后的叠加图像将表现为选区发生灰度过度，过度区域由强曝光中心向外扩散递减，生成含高斯补偿的切片图案；

S4、将含高斯补偿的切片图案加载至液晶空间光调制器驱动设备，开启激光生成并检测面状光斑：

如果光斑不符合要求，则修改高斯晕影的参数，重复步骤S2-S4，直至光斑符合要求。

2.根据权利要求1所述的面曝光光斑光强匀化方法，其特征在于，所述二值灰度图像或高斯补偿图像的尺寸包括200px×200px。

3.根据权利要求1所述的面曝光光斑光强匀化方法，其特征在于，步骤S4中，光斑是否符合要求的评价标准包括光强差异大小和光强不均匀范围；其中，光强差异大小通过高斯峰值进行调节，光强不均匀范围通过高斯半径进行调节。

4.根据权利要求1所述的面曝光光斑光强匀化方法，其特征在于，步骤S4中，光斑的检测采用CCD进行检测。

5.根据权利要求1-4任一项所述的面曝光光斑光强匀化方法，其特征在于，所述切片图像的格式包括png、jpg、bmp和tiff。

6.如权利要求1-5任一项所述的面曝光光斑光强匀化方法的应用，其特征在于，用于金属面曝光增材制造过程中调制光斑光强不均匀。