[发明专利]一种用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置及方法有效
申请号: | 202110388332.1 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113109206B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 方帅;赵建国;赵树春;李博 | 申请(专利权)人: | 上海天岳半导体材料有限公司 |
主分类号: | G01N5/04 | 分类号: | G01N5/04 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 冯妙娜 |
地址: | 201306 上海市浦东新区中国(上海)*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 评价 坩埚 原料 装配 均匀 装置 方法 | ||
1.一种用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,包括:
机架,所述机架的底壁上设置有支撑杆,所述支撑杆上方设置有支撑台,所述支撑台与所述支撑杆通过第一连接件转动连接或所述支撑杆与所述机架的底壁通过第二连接件转动连接,所述支撑台用于放置坩埚,所述坩埚、所述支撑台及所述支撑杆共中心轴线设置,所述支撑台的材质为石墨、陶瓷或石英;
测试组件,所述测试组件包括至少三个测试计,每个所述测试计位于同一水平高度上,并沿所述坩埚周向分布,所述测试计的一端连接在所述机架的内侧壁上,另一端能够接触到所述坩埚的外侧壁;或
测试组件,所述测试组件包括至少三个沿所述支撑杆周向分布的测试计,所述测试计的一端连接在所述机架的底壁上,另一端能够接触到所述支撑台的下表面。
2.根据权利要求1所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,所述支撑杆的上端开设有球形凹槽,所述支撑台的下侧连接有球形凸部,所述球形凸部安装在所述球形凹槽内,并与所述球形凹槽发生相对转动。
3.根据权利要求1所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,所述支撑台的中心设置有水平确认器。
4.根据权利要求1至3任一项所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,测试组件包括四个压力测试计,四个所述压力测试计沿所述坩埚周向均匀分布,每个所述压力测试计的一端连接在所述机架的内侧壁上,另一端能够接触到靠近所述坩埚的外侧壁。
5.根据权利要求4所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,所述机架的底壁设置有第一驱动机构,所述第一驱动机构与所述支撑杆相连,所述第一驱动机构用于驱动所述支撑杆升降,以带动所述支撑台升降。
6.根据权利要求4所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,每个所述压力测试计均通过伸缩臂与所述机架的内侧壁相连,所述伸缩臂用于驱动与其相连的所述压力测试计靠近或远离所述坩埚。
7.根据权利要求6所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,所述机架的侧壁设置有若干个滑槽,每个所述滑槽内均设有调节丝杠,每个所述伸缩臂靠近所述滑槽的一端均连接有调节螺母,所述调节螺母与所述调节丝杠 配合以调节所述压力测试计的高度位置。
8.根据权利要求6所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,所述支撑台上设置有定位组件,所述定位组件包括第一定位件和第二定位件,所述第一定位件、所述第二定位件和所述支撑台围成用于放置所述坩埚的容纳腔;
所述第一定位件与所述第二定位件分别能够调节距离所述支撑杆中心轴线的相对位置。
9.根据权利要求4所述的用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置,其特征在于,所述压力测试计靠近所述坩埚的一端连接有连接杆,所述连接杆的另一端连接有弧形板,所述弧形板的形状与所述坩埚外侧壁的形状适配。
10.一种利用权利要求1至9任一项所述的装置评价坩埚内原料装配均匀性的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
将装配好原料的坩埚放置在支撑台上,观察各个测试计的示数是否发生变化,其中,坩埚内各个位置的原料平均堆积密度均一;或
将坩埚放置在支撑台上,在坩埚内装配原料,装料结束后,观察各个测试计的示数是否发生变化,其中,坩埚内各个位置的原料平均堆积密度均一。
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