[发明专利]显示基板、装置及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110396503.5 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113130613B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 袁长龙;冯靖伊;曹席磊;徐映嵩;张振华 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H10K59/12 分类号: H10K59/12;H10K59/122;H10K50/844;H10K71/00;G06F3/041;H01L27/15
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 车英慧
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 装置 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括:

基底;

阵列排布的发光元件,设置在所述基底上;以及

反射结构,设置在所述发光元件的远离所述基底的一侧,并被配置为反射所述发光元件发出的侧向光,使得所述侧向光能够从所述显示基板射出;

像素界定层,设置在所述基底上,并被配置为划分所述发光元件及所述发光元件的周边区域;

所述反射结构包括支撑部和反射侧面,所述支撑部覆盖由所述像素界定层限定出的开口区;并且所述支撑部的侧面朝向所述开口区倾斜,所述反射侧面设置在所述支撑部的侧面,所述反射侧面用于反射所述发光元件发出的侧向光,所述反射侧面为半透半反的膜层,所述反射侧面用以反射部分侧向光,并使部分侧向光发生折射;相邻所述发光元件的反射侧面通过反射正面连接,所述反射正面在所述基底上正投影位于所述像素界定层在所述基底上的正投影中。

2.根据权利要求1所述的显示基板,还包括:

所述反射侧面在所述基底上的正投影位于所述发光元件的周边区域在所述基底上的正投影中。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述反射侧面在所述基底上的正投影环绕或者部分环绕所述发光元件在所述基底上的正投影的周围。

4.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述支撑部与所述像素界定层限定出的开口区无重叠;并且所述支撑部的侧面向远离所述开口区的方向倾斜。

5.根据权利要求2所述的显示基板,还包括:

吸光层,被配置为吸收光路对准所述反射结构的环境光;其中,所述吸光层在所述基底上的正投影位于所述像素界定层在所述基底上的正投影中。

6.根据权利要求1所述的显示基板,还包括:

封装层,设置在阵列排布的发光元件上;

所述反射结构位于所述封装层内。

7. 根据权利要求1所述的显示基板,还包括:

受光单元,设置在所述基底上,被配置为检测手指反射光,进行指纹识别;以及

所述反射结构,还被配置为调整手指反射光的方向,使得所述手指反射光能够被所述受光单元检测。

8.根据权利要求7所述的显示基板,其中,所述反射结构包括反射侧面;所述反射侧面向远离所述受光单元的方向倾斜。

9.一种显示装置,包括权利要求1~8任一项所述的显示基板。

10.根据权利要求9所述的显示装置,其中,所述显示基板包括封装层,所述显示装置还包括:

触控层,设置在所述封装层上;

所述反射结构位于所述触控层上、所述触控层内或者所述封装层和所述触控层之间。

11.根据权利要求10所述的显示装置,其中,

所述反射结构包括反射侧面和支撑部;

所述触控层包括第一触控电极和触控绝缘层;所述第一触控电极位于所述触控绝缘层上;

所述反射侧面和所述第一触控电极的制作材料为同种材料;所述支撑部和所述触控绝缘层的制作材料为同种材料。

12.一种对权利要求11所述的显示装置的制备方法,包括:

提供包括发光元件的基板;

在所述基板上形成第二触控电极;

采用半色调掩膜构图工艺在所述基板和所述第二触控电极上形成触控绝缘层及突出所述触控绝缘层的支撑部;

采用一次构图工艺形成第一触控电极和位于所述支撑部的侧面的反射侧面;

其中,所述反射侧面被配置为反射所述发光元件发出的侧向光,使得所述侧向光能够从显示装置射出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110396503.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top