[发明专利]有机硅生产用石墨换热器的清洗方法

权利要求书

1.一种有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，按如下步骤进行：

步骤一、配制氧化剂混合液：将浓硫酸与双氧水在配制釜内配制成氧化剂混合液；

步骤二、第一阶段循环氧化：向配制釜夹套通入加热蒸汽，通过蒸汽控制氧化剂混合液温度，利用循环泵将氧化剂混合液给入石墨换热器中进行第一阶段循环氧化；

步骤三、第二阶段循环氧化：第一阶段循环氧化结束后，通过蒸汽继续升高氧化剂混合液的温度进行第二阶段循环氧化，氧化后杂质为小分子有机物，其中部分杂质通过浓硫酸带入硫酸提浓系统进行处理；

步骤四、低沸点硅氧烷洗涤：第二阶段循环氧化结束后，利用循环泵将放置在硅氧烷釜内的沸点≤210℃的低沸点硅氧烷给入石墨换热器中，对石墨换热器进行洗涤，将另一部分氧化后杂质带入重排净化系统进行处理；低沸点硅氧烷温度通过向硅氧烷釜夹套加入蒸汽控制；

步骤五、系统本身废水洗涤：将系统本身废水罐内酸度＜3%的含HCl废水通过循环泵给入石墨换热器进行废水洗涤，将残存的低沸点硅氧烷和剩余微量杂质置换出去，废水洗涤结束后完成石墨换热器的清洗。

2.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，浓硫酸浓度≥95wt%，浓硫酸与双氧水质量配比为1:1%~5%。

3.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，浓硫酸浓度≥95wt%，浓硫酸与双氧水质量配比为1:3%~4%。

4.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，第一阶段循环氧化温度为20℃~60℃，循环时间1~4h。

5.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，第一阶段循环氧化温度为30℃~40℃，循环时间1~2h。

6.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，第二阶段循环氧化温度为100℃~180℃，循环时间1~4h。

7.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，第二阶段循环氧化温度为130℃~140℃，循环时间1~2h。

8.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，步骤四低沸点硅氧烷的洗涤温度为100℃~150℃，循环时间1~4h。

9.根据权利要求1所述的有机硅生产用石墨换热器的清洗方法，其特征在于，步骤四低沸点硅氧烷的洗涤温度为100℃~120℃，循环时间1~2h。