[发明专利]一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法

说明书

本发明涉及涂层制作技术领域，尤其是一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法，以基板的旋转中心为极点建立极坐标，在所述极坐标的极轴上设置所述基板上的膜厚变化区域所对应的半径；在半径范围内对所述极坐标进行一定数量的半径分割以及一定数量的角度分割；按照各半径分割点所对应的所述掩模版的各遮挡弧度，以样条曲线或直线连接各半径分割线与各角度分割线之间的交点从而形成所述掩模版的边界线。本发明的优点是：实现掩模版形状的快速设计，同时保证掩模版的设计精度满足膜厚变化的需要；可实现掩模版形状的快速调整，适应性强，可适用于不同膜厚变化要求的掩模版间的快速变换；使用方便，效率高，大大节约设计时间，利于工艺实施，适于推广。

技术领域

本发明涉及涂层制作技术领域，尤其是一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法。

背景技术

极坐标厚度渐变涂层可应用于照相或摄影中的视场边缘或近轴虚化滤镜，借助此滤镜可直接获取相应虚化的图片或影像，无需在后期借助相关软件算法达到类似目的，借助滤镜更为直接，也更为安全。

极坐标厚度渐变涂层的制作多依赖于掩模版（也可写作掩膜板）的特殊设计，掩模版设计无统一标准，达到所需渐变效果即可。实际上，很多具体的渐变实施过程，掩模版的实际结构很依赖实施者的经验或复杂的理论计算，导致具体实施过程耗时较长或需要繁琐的计算。

发明内容

本发明的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法，通过采用极坐标分割的方式配合样条曲线连接离散点，在保证精度的同时，实现掩模版形状的快速设计。

本发明目的实现由以下技术方案完成：

一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法，用于对掩模版的形状进行设计，所述掩模版设置在蒸发源与基板之间，所述基板在旋转驱动机构的驱动下旋转，所述基板上设置有膜厚变化的涂层，其特征在于：该设计方法包括以下步骤：

以基板的旋转中心为极点建立极坐标，在所述极坐标的极轴上设置所述基板上的膜厚变化区域所对应的半径；在半径范围内对所述极坐标进行一定数量的半径分割以及一定数量的角度分割；按照各半径分割点所对应的所述掩模版的各遮挡弧度，以样条曲线或直线连接各半径分割线与各角度分割线之间的交点从而形成所述掩模版的边界线。

所述半径分割是以所述基板的旋转中心由内向外的距离进行等分；所述角度分割的分割数与所述半径分割的分割数相同且为等分。

所述基板与所述掩模版之间的距离小于所述蒸发源与所述掩模版之间距离的1/10。

当所述掩模版为对称形状时，计算掩模版的局部对称单元，而后通过对局部对称单元进行对称镜像的方式获取所述掩模版的完整形状。

根据所述基板上的膜厚变化区域的变化对应调整所述极坐标上的半径分割线与角度分割线之间交点的位置，从而实现所述掩模版形状的调整。

将待转换的既有基板按其最大掩模半径进行一定数量的等分，获取每个等分所对应的临界点，连接所有等分的所述临界点从而形成转换后的掩模版的边界线，从而实现所述掩模版形状的转换。

所述基板上的膜厚变化区域为膜厚渐变，即沿所述基板的旋转中心由内向外的方向膜厚渐变。

本发明的优点是：实现掩模版形状的快速设计，同时保证掩模版的设计精度满足膜厚变化的需要；可实现掩模版形状的快速调整，适应性强，可适用于不同膜厚变化要求的掩模版间的快速变换；使用方便，效率高，大大节约设计时间，利于工艺实施，适于推广。

附图说明

图1为本发明中蒸发源、掩模版、基板相对位置示意图；

图2为本发明中电源蒸发误差原理图；

图3为本发明中极坐标膜厚线性渐变趋势图；

图4为本发明中1/4渐变区域的角度及半径等分图；

图5为本发明中距离圆心位置与遮挡弧长的关系图；