[发明专利]一种双压力液冷磁通调节装置

权利要求书

1.一种双压力液冷磁通调节装置，包括调磁机构，所述调磁机构设置在开槽定子上，所述开槽定子上均布有相互对称的带有背绕式绕组的定子内槽和定子背槽，每组相对应的所述定子内槽槽底和所述定子背槽槽底均设置有相互连接的所述背绕式绕组，所述背绕式绕组一端设置在所述定子内槽内，另一端经所述开槽定子的端部和所述定子背槽后环绕定子轭一周，其特征是：所述调磁机构包括磁通调制块、液体压力空间和气体压力空间；所述液体压力空间由前定子端盖、后定子端盖、磁通调制块、开槽定子以及隔油环围成，所述开槽定子上的每个所述定子背槽开槽内均分别设置有所述磁通调制块，所述磁通调制块与所述定子背槽两侧壁之间为滑动密封连接，所述开槽定子的前端面上设置有用于密封冷却液的所述前定子端盖，所述开槽定子的后端面上设置有用于密封冷却液的所述后定子端盖，所述开槽定子中心部位空心位置处设置有与其同轴心的所述隔油环，所述磁通调制块与所述定子背槽槽底之间设置有用于冷却液流通的第一通道沟槽；所述气体压力空间由前机壳端盖、后机壳端盖、隔油环、机壳、所述磁通调制块以及所述开槽定子围成，所述开槽定子外围通过连接柱固定有所述机壳，所述机壳的前端面上设置有所述前机壳端盖，后端面上设置有所述后机壳端盖，所述气体压力空间内充入有气体，所述液体压力空间与所述气体压力空间之间相互独立密封设置，所述气体压力空间内的气体给所述磁通调制块外围一个向所述定子背槽槽底方向的气体压力，所述液体压力空间内的所述第一通道沟槽内流通的所述冷却液给所述磁通调制块内侧一个向所述定子背槽开槽口方向的液体压力，所述磁通调制块在所述气体压力和所述液体压力的共同作用下，在所述定子背槽内滑动或者固定不动。

2.根据权利要求1所述的一种双压力液冷磁通调节装置，其特征是：所述隔油环的前端穿过所述前定子端盖后与所述前机壳端盖固定连接，后端穿过所述后定子端盖后与所述后机壳端盖固定连接，所述隔油环的外壁与所述开槽定子上的定子齿内壁接触连接，与所述前定子端盖和所述后定子端盖固定连接，所述隔油环与所述定子内槽槽底之间设置有用于冷却液流通的第二通道沟槽。

3.根据权利要求2所述的一种双压力液冷磁通调节装置，其特征是：所述前定子端盖的尺寸与所述开槽定子的前端面尺寸相匹配，所述前定子端盖包括在同一水平面上的前通道口和前密封台，所述前密封台设置在所述前通道口的外围圆周，所述前通道口的内径尺寸与所述隔油环的外径尺寸相匹配，以方便所述隔油环前端穿过所述前通道口后与所述前机壳端盖连接，所述前密封台上靠近所述开槽定子前端面的一面上设置有前环型凹槽，所述前环型凹槽环绕在所述前通道口圆周。

4.根据权利要求3所述的一种双压力液冷磁通调节装置，其特征是：所述前环型凹槽上远离所述前通道口的一侧壁底部与所述开槽定子前端面外沿连接，且与所述开槽定子前端面上的所述定子轭连接处为固定密封连接，与所述磁通调制块连接处为滑动密封连接；所述前环型凹槽上靠近所述前通道口的一侧壁底部与所述定子齿前端面固定连接，所述前环型凹槽槽底与所述开槽定子前端面之间设置有用于冷却液流通的第三通道沟槽。

5.根据权利要求4所述的一种双压力液冷磁通调节装置，其特征是：所述后定子端盖的尺寸与所述开槽定子的后端面尺寸相匹配，所述后定子端盖包括在同一水平面上的后通道口和后密封台，所述后密封台设置在所述后通道口的外围圆周，所述后通道口的内径尺寸与所述隔油环的外径尺寸相匹配，以方便所述隔油环后端穿过所述后通道口后与所述后机壳端盖连接，所述后密封台上靠近所述开槽定子后端面的一面上设置有后环型凹槽，所述后环型凹槽环绕在所述后通道口圆周。

6.根据权利要求5所述的一种双压力液冷磁通调节装置，其特征是：所述后环型凹槽上远离所述后通道口的一侧壁底部与所述开槽定子后端面外沿连接，且与所述开槽定子后端面上的所述定子轭连接处为固定密封连接，与所述磁通调制块连接处为滑动密封连接；所述后环型凹槽上靠近所述后通道口的一侧壁底部与所述定子齿后端面固定连接，所述后环型凹槽槽底与所述开槽定子后端面之间设置有用于冷却液流通的第四通道沟槽。