[发明专利]水印去除方法、装置及存储介质在审

专利信息
申请号: 202110402489.5 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN112927122A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 刘坤 申请(专利权)人: 北京小米移动软件有限公司;北京小米松果电子有限公司
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00;G06T5/00
代理公司: 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 代理人: 魏嘉熹
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 水印 去除 方法 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种水印去除方法,其特征在于,包括:

针对存在水印的待处理图像,获取所述待处理图像中的水印位置;

根据所述待处理图像,得到色调饱和度明度HSV空间的待处理HSV图像,对所述待处理HSV图像的明度V通道进行处理,得到目标HSV图像;

根据所述目标HSV图像中所述水印位置的图像,得到水印掩膜;

根据所述水印掩膜,对所述待处理图像进行图像修补处理,得到修补后去除水印的图像。

2.根据权利要求1所述的水印去除方法,其特征在于,所述根据所述待处理图像,得到色调饱和度明度HSV空间的待处理HSV图像,包括:

若所述待处理图像为HSV类型,则将所述待处理图像确定为待处理HSV图像;

若所述待处理图像不为HSV类型,将所述待处理图像转换至HSV类型的图像,将转换后的图像确定为待处理HSV图像。

3.根据权利要求1所述的水印去除方法,其特征在于,所述对所述待处理HSV图像的明度V通道进行处理,得到目标HSV图像,包括:

对所述待处理HSV图像的V通道进行二值化处理,得到目标HSV图像。

4.根据权利要求1所述的水印去除方法,其特征在于,所述方法还包括:

确定待检测图像,并根据设定的图像位置,确定所述待检测图像的多个水印候选位置;

将所述待检测图像输入水印检测模型,针对所述多个水印候选位置中的每一个水印候选位置,通过所述水印检测模型对所述每一个水印候选位置进行水印检测,若检测到所述每一个水印候选位置存在水印,则输出标记水印位置的待检测图像;

将所述标记水印位置的待检测图像确定为待处理图像。

5.根据权利要求4所述的水印去除方法,其特征在于,所述确定待检测图像,包括:

获取视频,按照预设的时间间隔对所述视频进行抽帧,得到多个视频帧图像,将所述多个视频帧图像确定为待检测图像。

6.根据权利要求4所述的水印去除方法,其特征在于,所述确定待检测图像,包括:

获取视频,对所述视频按照预设的时间段进行分段,得到多个视频片段,对所述多个视频片段中的每一个视频片段进行视频抽帧,得到所述每一个视频片段的多个视频帧图像,将所述每一个视频片段的多个视频帧图像确定为待检测图像;

所述将所述待检测图像输入水印检测模型,包括:

按照时间的先后顺序将第一个视频片段的多个视频帧图像输入所述水印检测模型,针对第一视频片段的每个视频帧图像,分别对该视频帧图像的每一个水印候选位置进行水印识别,若输出为未标记水印位置的待检测图像,则将第二个视频片段的多个视频帧图像输入所述水印检测模型,以此类推,直至从所述水印检测模型输出标记水印位置的待检测图像,则停止将剩余待检测图像输入所述水印检测模型。

7.根据权利要求1所述的水印去除方法,其特征在于,所述根据所述水印掩膜,对所述待检测图像进行图像修补处理,得到修补后去除水印的图像,包括:

根据所述水印掩膜,确定所述待处理图像中与所述水印掩膜对应的图像区域;

利用图像修补算法对所述图像区域进行修补处理,得到修补后去除水印的图像。

8.一种水印去除装置,其特征在于,包括:

获取模块,被配置为针对存在水印的待处理图像,获取所述待处理图像中的水印位置;

确定模块,被配置为根据所述待处理图像,得到色调饱和度明度HSV空间的待处理HSV图像,对所述待处理HSV图像的明度V通道进行处理,得到目标HSV图像;

处理模块,被配置为根据所述目标HSV图像中所述水印位置的图像,得到水印掩膜,并

根据所述水印掩膜,对所述待处理图像进行图像修补处理,得到修补后去除水印的图像。

9.一种水印去除装置,其特征在于,包括:

处理器;

用于存储处理器可执行指令的存储器;

其中,所述处理器被配置为:执行权利要求1-7中任一项所述的水印去除方法。

10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序指令,其特征在于,该程序指令被处理器执行时实现权利要求1-7中任一项所述方法的步骤。

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