[发明专利]包括顶侧冷却接口的功率放大器模块及其制造方法在审
申请号: | 202110402948.X | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113539843A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 杰奥弗里·塔克;拉克希米纳拉扬·维斯瓦纳坦;杰弗里·凯文·琼斯;伊利·A·马卢夫 | 申请(专利权)人: | 恩智浦美国有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L23/488;H01L23/367 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 纪雯 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 冷却 接口 功率放大器 模块 及其 制造 方法 | ||
1.一种用于制造功率放大器模块(PAM)的方法,其特征在于,所述方法包括:
获得射频(RF)功率管芯,所述RF功率管芯包括前侧、后侧以及所述RF功率管芯的所述前侧上的前侧输入/输出(I/O)接口;
将所述RF功率管芯附接到模块基板的管芯支撑表面,所述RF功率管芯以倒置定向附接到所述模块基板,使得所述RF功率管芯的所述前侧面向所述模块基板;
当将所述RF功率管芯附接到所述模块基板时,将所述RF功率管芯的所述前侧I/O接口电耦合到所述模块基板的相应互连特征;以及
提供主要热量提取路径,所述主要热量提取路径在与所述模块基板相对的方向上从所述RF功率管芯的所述后侧延伸到所述PAM的顶侧冷却接口。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,另外包括将顶侧热延伸部键合到所述RF功率管芯的所述后侧,所述主要热量提取路径延伸穿过所述顶侧热延伸部。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述顶侧热延伸部包括具有超过100瓦每米开尔文的导热率的预制主体;并且
其中键合包括使用导热键合材料将所述顶侧热延伸部键合到所述RF功率管芯的所述后侧。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,另外包括形成包封所述RF功率管芯、外围围绕所述顶侧热延伸部并接触所述模块基板的模制模块主体。
5.一种用于制造多个功率放大模块(PAM)的方法,其特征在于,所述方法包括:
将射频(RF)功率管芯的后侧键合到包含多个互连的顶侧热延伸部的热延伸部面板;
在键合之后,分离所述热延伸部面板以产生部分制造的PAM,每个PAM包含键合到分离的顶侧热延伸部的至少一个RF功率管芯;
在分离所述热延伸部面板之后,将所述部分制造的PAM附接到包含多个互连模块基板的基板面板,使得每个模块基板具有附接到其上的至少一个部分制造的PAM;
当将所述RF功率管芯附接到所述基板面板时,将所述RF功率管芯的前侧输入/输出(I/O)接口电耦合到所述多个互连模块基板的相应基板互连特征;以及
在将所述部分制造的PAM附接到所述基板面板之后,进一步分离所述基板面板以产生多个PAM,每个PAM包括至少一个RF功率管芯、与所述至少一个RF功率管芯电耦合的分离的模块基板以及与所述模块基板相对的分离的顶侧热延伸部。
6.一种功率放大器模块(PAM),其特征在于,包括:
顶侧;
底侧,其如沿着延伸穿过所述功率放大器模块的中心线所示的与所述顶侧相对;
射频(RF)功率管芯,其位于沿着所述中心线所示的所述顶侧与所述底侧之间,所述RF功率管芯具有前侧、后侧以及所述前侧上的前侧输入/输出(I/O)接口;
模块基板,所述RF功率管芯以倒置定向安装到所述RF模块基板,使得所述RF功率管芯的所述前侧面向所述模块基板,所述模块基板具有电耦合到所述RF功率管芯的所述I/O接口的基板互连特征;
顶侧冷却接口,其与所述PAM的所述顶侧基本共面;以及
主要热量提取路径,所述主要热量提取路径在与所述模块基板相对的方向上从所述RF功率管芯的所述后侧延伸到所述PAM的所述顶侧冷却接口。
7.根据权利要求6所述的PAM,其特征在于,另外包括顶侧热延伸部,所述顶侧热延伸部具有至少部分地限定所述PAM的所述顶侧冷却接口的上表面,以及与所述RF功率管芯的所述后侧直接热接触的下表面。
8.根据权利要求7所述PAM,其特征在于,另外包括围绕所述RF功率管芯、外围围绕所述顶侧热延伸部并接触所述模块基板的模制模块主体;
其中所述顶侧热延伸部在与所述模块基板相对的方向上从邻近所述RF功率管芯的位置延伸以破坏所述模制模块主体的上表面。
9.根据权利要求7所述的PAM,其特征在于,所述RF功率管芯另外包括场效应器晶体管,所述场效应器晶体管具有通过所述顶侧热延伸部电耦合到所述模块基板的导电互连特征的源极端。
10.根据权利要求6所述的PAM,其特征在于,所述RF功率管芯另外包括场效应晶体管,所述场效应晶体管具有漏极歧管、栅极歧管、位于所述漏极歧管与所述栅极歧管之间的叉指形触点线阵列以及邻近所述叉指形触点线阵列的多个源极触点;
其中所述漏极歧管、所述栅极歧管和所述多个源极触点各自耦合到设置在所述RF功率管芯的所述前侧I/O接口中的端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩智浦美国有限公司,未经恩智浦美国有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110402948.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造