[发明专利]显示基板及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

衬底基板；

设置于所述衬底基板一侧的发光层；

设置于所述发光层远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述发光层的封装层；

其中，所述封装层包括第一无机层、第二无机层以及设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层；

所述有机层包括还原性螯合剂。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有机层中包含的所述还原性螯合剂与所述有机层材料的质量比的比例范围是0.01％至0.1％。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述还原性螯合剂包括金属或金属离子。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述金属包括Cu；

所述金属离子包括Cu⁺、Fe²⁺中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有机层还包括甲基丙烯酸甲酯。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述有机层的厚度为0.5至1.5微米。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一无机层包括SiNO_x；所述第二无机层包括SiN_x。

8.一种显示装置，包括根据权利要求1至7中任一项所述的显示基板。

9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

在衬底基板上形成发光层；

在所述发光层远离所述衬底基板的一侧形成覆盖所述发光层的封装层；

形成所述封装层包括：

形成第一无机层；

在所述第一无机层的远离所述衬底基板的一侧形成有机层；

在所述有机层的一侧远离所述衬底基板的一侧形成第二无机层；

其中，所述有机层包括还原性螯合剂。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述第一无机层和所述第二无机层通过化学气相沉积工艺形成；

所述有机层通过喷墨打印工艺形成。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述有机层在通过化学气相沉积工艺形成所述第二无机层发生裂解，所述有机层裂解形成氧化物；

所述还原性螯合剂用于吸附或消耗所述氧化物。

12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述还原性螯合剂与所述有机层材料通过物理混合形成流体，并通过喷墨打印工艺形成所述有机层。