[发明专利]扫描成像系统的控制系统及控制方法在审
申请号: | 202110409912.4 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN113138202A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 金子建;程智;王鹏飞;石发展;杜江峰;陈宇航 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G01N22/02 | 分类号: | G01N22/02;G01N21/64;G01Q60/24 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴梦圆 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扫描 成像 系统 控制系统 控制 方法 | ||
一种扫描成像系统的控制系统及控制方法,该控制系统用于基于氮空位色心及原子力显微镜连用平台,包括:微波波源;微波开关;激光源;声光调制器;计数模块,包括计数采集卡;模拟输出卡,包括:X轴控制端口和Y轴控制端口,以及Z轴控制端口;以及任意序列发生模块,具有多个TTL电平输出端口,不同TTL电平输出端口分别独立地配置TTL电平序列,所述TTL电平序列由所述多个TTL电平输出端口分别输出到所述微波波源、所述微波开关、所述声光调制器、所述计数采集卡和所述模拟输出卡,进而分别对所述微波波源、所述微波开关、所述声光调制器、所述计数采集卡和所述模拟输出卡进行控制。本发明还提供了一种扫描成像系统的控制方法。
技术领域
本发明涉及氮空位色心及原子力显微镜连用平台领域,尤其涉及扫描成像系统的控制系统及控制方法。
背景技术
金刚石材料中的点缺陷,特别是量子自旋缺陷、光学活性缺陷等,已被广泛应用于各种传感、检测和量子处理等领域。包括:磁力计;自旋共振装置,如核磁共振(NMR)和电子自旋共振(ESR);用于磁共振成像(MRI)的自旋成像装置;以及量子信息处理装置,如量子计算。
金刚石材料中很多点缺陷已经被研究,包括含硅的缺陷,含氮的缺陷,含铬的缺陷等。这些缺陷常以中性电荷状态和负电荷状态被发现。
已经发现,某些缺陷在其处于负状态时特别适用于传感、探测和量子处理领域。例如,金刚石材料中带负电荷的氮-空位(NV-)色心作为可用的量子自旋缺陷,具有广泛的应用。该缺陷具有如下特性:
具有很长的相干时间,能够以高保真度操纵它的电子自旋状态。
金刚石中NV-色心是由碳空位及邻近的氮原子组成。它的基态为自旋三重态(3A),其简并ms=±1能级与ms=0能级具有2.87GHz的零场劈裂。在进行光泵浦时,ms=0的次能级显示高的荧光率,相反,当缺陷在ms=±1能级被激发时,它显示出较高概率跨过单重态(1A),紧接着弛豫到ms=0能级。因此,从荧光强度的结果,可以读出自旋状态,即ms=±1的能级状态是“暗”,ms=0的能级状态是“亮”。当施加外部磁场时,通过塞曼(Zeeman)分裂打破次能级自旋态ms=±1的简并性,这引起共振谱线根据所施加的磁场幅度和其方向而分裂。这种相关性可用于矢量磁力测定,可以通过扫描微波频率检测共振自旋跃迁,得到光学检测磁共振(ODMR)谱中的荧光特征下降的频点,进而求解出外磁场矢量在NV-轴向的分量大小。
原子力显微镜(AFM)是基于原子间作用力的表面形貌测量工具,具有纳米级的分辨率,其在物理、化学、材料等诸多领域有广泛领域。
将AFM的扫描特性与金刚石NV-色心测量特性结合所搭建的NV-AFM连用平台,在电场、磁场等物理量空间扫描成像领域有重要应用。现有NV-AFM连用平台的硬件结构如图1所示,其具体结构及功能说明如下:AFM部分包括了探针台,位移台,探针,样品,其中探针台由纳米位移台、微米位移台及角度位移台组成,其中微米位移台及角度位移台用于调节探针和样品相对位置及角度,纳米位移台用于扫描成像,探针是含有NV-色心的针尖,这有别于传统的AFM。共聚焦光路部分包括激发光路,显微镜头,收集光路,激发光路用于激发金刚石中的单NV-色心,收集光路用于收集NV色心激发后回到初态过程发出的荧光,显微镜头用于使激发光聚焦以及使荧光汇聚。微波部分包括了微波源,可按照磁学探测需要产生需要的微波。
扫描成像速度是扫描成像仪器最重要的参数之一,现有的NV-AFM连用平台在进行扫描成像时,其控制系统涉及到多次输入输出(IO)过程,降低了扫描成像速度。
发明内容
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