[发明专利]一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外包括：玻璃基板、至少3层连续设置的复合低辐射功能层以及保护层；

所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层；

所述复合低辐射功能层沿玻璃基板向外的方向依次包括叠加设置的第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层。

2.根据权利要求1所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一晶态介质层的材料包括Zn₂SnO₄和/或Nb₂O₅；

优选地，所述第二晶态介质层的材料包括Zn₂SnO₄和/或Nb₂O₅。

3.根据权利要求1或2所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一晶态介质层的厚度为8nm-20nm；

优选地，所述银层的厚度为5nm-20nm；

优选地，所述第二晶态介质层的厚度为8nm-20nm。

4.根据权利要求1-3任一项所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述保护层的材料包括ZrO₂、NbO_a、SiC_b、Si₃N₄、SiNC_c或TiN_d中的任意一种或者至少两种的组合，其中，0a≤2，0b≤4，0c≤4，0d≤4；

优选地，所述保护层的厚度为5nm-15nm。

5.根据权利要求1-4任一项所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述介质层的材料包括Si₃N₄、TiO₂、ZnSnO_x、ZrO₂、NbO_y或TaO中的任意一种或至少两种的组合，其中0x≤2，0y≤2；

优选地，所述介质层的厚度为20nm-50nm。

6.一种如权利要求1-5所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

采用真空磁控溅射镀膜方法，在玻璃基板上镀制介质层、至少3层连续设置的复合低辐射功能层、介质层以及保护层。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括对镀膜玻璃的热处理过程。

8.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于，所述镀膜玻璃的热处理过程中用到的方法包括基底加热、钢化热处理激光处理或辐照处理。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，镀制复合低辐射功能层为依次镀制第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层；

优选地，所述第一晶态介质层通过交流阴极的氧化陶瓷靶在氩气氛围中溅射；

优选地，所述银层通过直流平靶银靶在氩气氛围中溅射；

优选地，所述第二晶态介质层通过交流阴极的氧化陶瓷靶在氩气氛围中溅射。

10.一种如权利要求1-5任一项所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的用途，其特征在于，所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃用作汽车前挡夹胶玻璃或建筑节能玻璃。