[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202110413677.8 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN113140689B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 李金钰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H10K59/122 分类号: H10K59/122;H10K71/00
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括:

衬底基板;

像素定义层,设于所述衬底基板的一侧,包括多个开口;

像素间隔层,包括多个设于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧的像素支撑结构,所述像素支撑结构至少靠近所述开口的一侧为曲面;所述像素支撑结构呈椭球形或圆形;

所述像素间隔层,是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的或者是由光致变形材料制成的;所述光致变形材料在UV光照下可实现由规则方形变为圆形或椭球形,并且控制变形过程不可逆,即在可见光或者加热变化下圆形或椭球形不会再恢复到规则方形。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述设计比例中,所述光刻胶溶液的份数不大于所述光致变形材料的份数。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述光致变形材料包括开环形材料。

4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述开环形材料包括含有偶氮苯、螺吡喃或二苯基乙烯中的至少一种的官能团的材料。

5.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-4中任一项所述的显示基板。

6.一种如权利要求1-4中任一所述的显示基板的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底基板的一侧制备像素定义层;

对所述像素定义层进行刻蚀,使得所述像素定义层形成多个开口;

在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧制备像素间隔层;所述像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的;

对所述像素间隔层进行曝光和显影,使得所述像素间隔层形成的多个像素支撑结构至少靠近所述开口的一侧形成曲面。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述设计比例中,所述光刻胶溶液的份数不大于所述光致变形材料的份数。

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